비정질 반도체

소개글

비정질 반도체에 대한 보고서 자료입니다.

목차

◎ 비정질재료
1. 정의
2. 비정질 재료의 분류
3. 비정질 재료의 특징
4. 비정질 재료의 제조법

◎ 비정질 반도체
1. 비정질 실리콘
2. 칼코겐화물 비정질 재료

본문내용

metal insulator semiconductor)형의 트랜지스터를 형성한 것을 가리킨다. TFT는 소스(source), 드레인(drain), 게이트(gate)의 3단자로 이루어져 있다. TFT는 게이트에 인가하는 전압에 의해서 소스와 드레인 사이에 흐르는 전류를 제어한다. 게이트에 전압이 걸리면 소스와 드레인 사이의 저항이 낮아져서 전류가 흐르고 트랜지스터의 on 상태가 된다. 전압이 제거되면 트랜지스터는 off 상태로 된다. a-Si TFT 에서는 일반적으로 stagger 형으로 제조되는데 이는 반도체와 절연막을 동일한 방법에 의해 제조할 수 있으므로 연속적인 공정이 가능하기 때문이다.
a-Si TFT는 액정 디스플레이에 주로 이용된다. 액정 디스플레이의 원리는 다음과 같다. 액정은 90도 비틀려서 디스플레이에 배향되는데, 이 상태에서 편광판을 통해 빛이 입사하면 분자축을 따라서 90도 방향이 바뀌어서 다음 편광판을 통해 나간다. 여기에 임계전압 이상을 가하면 액정의 비틀림이 사라지고 입사된 빛은 출구의 편광판에 의해 통과하지 못한다. 이 셔터의 개폐는 수십만개의 화소에 대하여 독립적으로 이루어지지 않으면 안 된다. 이와 같이 대면적의 액정 디스플레이에 적용할 수 있고 미세가공이 가능하며 양호하고 균일한 개폐소자를 형성할 수 있는 재료가 a-Si TFT이다. S와 G에 의해 화면의 위치를 지정하고 각 화소를 독립 제어한다. 따라서 브라운관처럼 큰 공간을 필요로 하는 전자빔과 그것을 제어하는 코일 대신에 1㎛ 정도의 박막에 의하여 화소를 선택할 수 있기 때문에 매우 얇은 TV를 제조할 수 있다.

키워드

비정질 반도체,   amorphous,   비정질 재료,   비정질 실리콘,   칼코겐화물,   제조법