목차
CMP 공정 도입 배경
CMP 장비구성
CMP 년간 유지비용 및 초음파 노즐 시장
초음파 노즐 필요성
공급 방식에 따른 Slurry 절감 효과
데모 적용결과
CMP 장비구성
CMP 년간 유지비용 및 초음파 노즐 시장
초음파 노즐 필요성
공급 방식에 따른 Slurry 절감 효과
데모 적용결과
본문내용
1. 시장분석
CMP 란?
Chemical Mechanical Polishing
Chemical Mechanical Planarization
Wafer를 화학적 반응(Chemical)과 기계적 힘(Mechanical)을 용하여 평탄하게(Planarization) 연마(Polishing)하는 반도체 공정.
CMP 란?
Chemical Mechanical Polishing
Chemical Mechanical Planarization
Wafer를 화학적 반응(Chemical)과 기계적 힘(Mechanical)을 용하여 평탄하게(Planarization) 연마(Polishing)하는 반도체 공정.
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