광학현미경및 에칭
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소개글

광학현미경및 에칭에 대한 보고서 자료입니다.

목차

1.광학현미경 사용법

2.구조

3.에칭

본문내용

로운 용액에
10-30 초 정도 담금
대부분의 Al 합금
Methanol
Hydrochloric acid
Nitric acid
Hydrofluoric acid
25 ml
25 ml
25 ml
1 drop
10-60초
순수 Al, Al-Mg합금
Mg-Si합금
Kroll’s Reagent
Distilled water
Nitric acid
Hydrofluoric acid
92 ml
6 ml
2 ml
15초 전후
Al-Cu합금
# Brass 및 Bronze
부 식 액
농 도
부 식 조 건
비 고
Ammonium hydroxide
(dilute solutions)
Dilute
Immersion
Attack polishing
Distilled water
Ferric chloride
Hydrochloric acid
100 ml
5 grams
50 ml
Immersion or
swabbing
Brasses, bronzes,
aluminum brass, alpha-
phases in brass
Ethanol
Hydrochloric acid
Ferric chloride
100 ml
5-30 grams
5 grams
1 second to
several minutes
by immersion or
swabbing
Darkens beta phase in
alpha-beta brasses and
aluminum
# Cast Iron
부 식 액
농 도
부 식 조 건
비 고
Nital
Ethanol
Nitric acid
100 ml
1-10 ml
Seconds to minutes
10% nitric acid 이내,
폭발위험
# Cu 및 Cu 합금
부 식 액
농 도
부 식 조 건
비 고
Distilled water
Ammonium hydroxide
3% Hydrogen peroxide
25 ml
25 ml
5-25 ml
수초~수분
Grain boundaries use
less H2O2 Grain
contrast use more H2O2
Distilled water
Nitric acid
50 ml
50 ml
수초~수분
Copper and copper alloys
Distilled water or Ethanol
Hydrochloric acid
Ferric chloride
100-120 ml
25-50 ml
5-10 grams
수초~수분
Produce grain contrast
# 저 탄소강
부 식 액
농 도
부 식 조 건
비 고
Nital
Ethanol
Nitric acid
100 ml
1-10 ml
수초~수분
10%초과하지 말 것 -
explosive
Picral
Ethanol
Picric acid
100 ml
2-4 grams
수초~수분
부식액을 건조시키지 말 것-
explosive
# 고 탄소강
부 식 액
농 도
부 식 조 건
비 고
Picral
Ethanol
Picric acid
100 ml
2-4 grams
수초~수분
열처리 강
부식액을 건조시키지 말 것
Ethanol
Nitric acid
Hydrochloric acid
Picric acid
80 ml
10 ml
10 ml
1 gram
수초~수분
Grain boundaries 부식용
# Sn 및 Sn 합금
부 식 액
농 도
부 식 조 건
비 고
Ethanol or methanol
or Distilled water
Hydrochloric acid
100 ml
2-5 ml
수초~수분
Pure tin, tin-lead alloys,
tin-antimony-copper alloys
Nital
Ethanol
Nitric acid
100 ml
1-10 ml
수초~수분
10%초과하지 말 것 - explosive
Distilled water or methanol
Hydrochloric acid
Ferric chloride
100 ml
5-25 ml
10 grams
수초~수분
Sn-Cu합금
# Zn 및 Zn 합금
부 식 액
농 도
부 식 조 건
비 고
Distilled water or
Ethanol
Hydrochloric acid
100 ml
1-5 ml
수분
Zinc and zinc alloys
Distilled water
Sodium Hydroxide
100 ml
10 grams
1~5초
Low alloy zinc and pure zinc
Distilled water
CrO3
Na2SO4
100 ml
20 grams
1-5 grams
수초
Swabbing
# CERAMICS
Oxide Ceramics
부 식 액
농 도
부 식 조 건
비 고
Thermal etching in air
수분~수시간
Al2O3,
Al2O3-MgO
Molten Salt
Potassium hydrogen
fluoride melt
5-10, Pt crucible
Al2O3,
Al2SiO5
Distilled water
Phosphoric acid
15 ml
85 ml
5분~2시간 boiling
Al2O3
Distilled water
Sulfuric acid
50 ml
50 ml
1~5분간 boiling
ZrO2
Carbide Ceramics
부 식 액
농 도
부 식 조 건
비 고
Molten Salt
Sodium or potassium bicarbonate melt
10초 정도, Pt crucible
SiC
Hydrochloric acid
Hydrogen peroxide (30%)
10 ml
10 ml
수초~수분
WC
Nitride Ceramic
부 식 액
농 도
부 식 조 건
비 고
Thermal etching in high purity nitrogen
1600℃ 에서 수시간
Si3N4
Molten Salt
Potassium
hydroxide melt
수초~수분, Pt crucible
Si3N4
Hydrofluoric acid
100%
10-15분
Si3N4
Boride Ceramics
부 식 액
농 도
부 식 조 건
비 고
Latic acid
Nitric acid
Hydrofluoric acid
30 ml
10 ml
10 ml
수초~수분

키워드

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  • 페이지수11페이지
  • 등록일2004.03.18
  • 저작시기2004.03
  • 파일형식한글(hwp)
  • 자료번호#244616
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