감광성 재료에 관하여

소개글

감광성 재료에 관하여에 대한 보고서 자료입니다.

목차

1. 감광성 고분자
(1) 디프 UV레지스트(Deep UV resist)
(2) 전자 레지스트
(3) X선 레지스트
(4) 광기록 재료
(5) 포토레지스트 감광재료

2. 전망

본문내용

정밀화학 고분자 소재가 사용된다. 그 중에서도 고해상도(CD)를 달성하는 감광재료인 포토레지스트는 반도체 제조에 있어서 집적도를 결정하는 미세가공기술용 첨단 정밀화학 소재로서 잘 알려진 광화학 반응과 고분자 화학에 기초를 두고 지난 20년간 급속한 발전이 이루어졌다. 고도한 과학기술 시대인 21세기 현재에 들어서는 수 기가빗의 초미세회로 반도체 제조에 요구되는 100㎚ 이하 고해상도 달성을 위하여 엑사이머 레이저 및 차세대 노광기술(NGL)에 적합한 레지스트 감광재료의 개발이 초미의 관심사로 대두되었다.
현 시점에서 보아 실용적 초미세가공기술의 발전은 아직도 극한 기술까지 추구하고 있는 광미세가공기술의 연장선 상에 있다. 다각적인 기술의 완성도와 경제적 측면에서 고려하여 ArF 노광기술로 100nm 미세회로 가공이 가능하리라 예측된다. 또한 플루오린 레이저(157nm 파장) 노광기술로 70nm 초미세회로 가공이 달성 될 것으로 기대되며, 나아가 50nm 회로의 가공도 이루어질 것으로 예상되고 있다. 새로운 구조의 포토레지스트 감광재료의 설계와 경제적 합성법 및 고정밀화 되는 레지스트 공정에 관용도가 우수한 감광재료 개발 연구는 국내 반도체 산업에서 첨단기술의 조기 확보에 아주 중요하다고 본다. 또한 감광재료를 이용한 미세 패턴 형성기술은 반도체 미세가공기술 뿐만 아니라 첨단 미래산업기술로 각광받는 초소형 정밀기계 장치(micro-electro- mechanical system : MEMS), 고밀도 정보기록, DNA 칩과 같은 생물 센서 분야에 다양하게 실용화되고 있는 중요한 정밀화학 소재 연구분야이다

키워드

포토레지스트,   레지스트,   감광성,   감광성고분자,   감광성 고분자,   UV레지스트,   전자레지스트,   X선레지스트