탄소강 부식 마운팅

본문내용

증기로부터 생긴 금속표면의 응축수는 이온이 흐를 수 있는 용액 역할을 한다. 부식은 바닷가 근처에서 더 빨리 일어난다.
<본론>
①실험기구 및 약품
비커, 메스실린더 minipol기계,초음파세척기,광학현미경(반사형),몰드
저탄소강 시편, 중탄소강 시편,Epoxy Mount Resin, Epoxy Mount Hardener, Release Spray,연마지(#100, #400, #1000, #2000), 폴리싱천(Polishing Cloth), 6㎛ Diamond Suspension , 1㎛ Diamond Suspension ,부식액 (질산1㎎ : 에탄올50㎎)
②실험방법
㉠몰드에 실리콘콜드몰드릴리스스프레이를 뿌려준다.
㉡레진과 하드너를 섞어, 몰드에 2/3정도 채워준 후 하루 정도 시간을 주어 굳힌다.
㉢굳힌 시편을 몰드에서 빼 내어 깨끗하게 정돈한 후 Minipol에 촉촉하게 적신 100번의 사
포를 끼고 회전수는 110으로 한 뒤 시편을 갈아준다.
㉣몰드가 평평해 지면 100번보다 더 고운 400번을 120rpm으로 그다음으로는 1000번을
130rpm, 2000번을 140rpm의 속도로 시편을 곱게 갈아준다.
㉤시편을 초음파 세척기에 넣어 세척하여준다.
㉥Minipol에 사포 대신 폴리싱 천을 이용하여 시편에 광택이 생기도록 해준다. 갈기 전에 폴리싱천에 물로 약간 적셔준 후 6μ다이아몬드서스펜션을 뿌려준다. 회전수는 150~250rpm
으로 해 준다. 광택이 어느 정도 생기게 되면 폴리싱 천을 하얀색으로 바꾸고 물로 촉촉하
게 한 뒤 1μ다이아몬드서스펜션을 뿌려주어 시편을 곱게 갈아준다.
㉦에탄올(50㎖)와 질산(1㎖)를 섞어 부식액을 만든다. 시편표면이 부식액에 충분히 잠기게
하여 적신 후 바로 내어 깨끗한 증류수로 닦아낸다.
㉧물기를 말린 후 현미경을 이용해 관찰을 하고 사진을 찍는다.
③실험값
<결론>
①토의
이제야 비로소 전공다운 실험을 하는 것 같아서 기분이 좋다.이번 실험은 상당한 시간을 두고 조직관찰을 하여 나름대로 미세조직의 깊이를 더했다고 할 수 있다. 실험 단계 중에서 연마하는 과정이 기억에 많이 남는다. 연마를 하면서 상당한 인내가 필요했고 마음대로 연마하다보면 굴곡이 생기는 것을 볼 수 있었다. 이때 굴곡이 심하면 다시 마운팅을 해주어야하기 때문에 신중함을 요구한다고 할 수 있겠다. 스크래치 또한 없애기 위해서는 적은 힘으로 많이 연마를 해 주어야 하기 때문이다.
연마할 때 신중하게 하지 않으면, 시편을 놓치는 실수를 하게되고, 연마를 하는데. 시간도 또한 많이 할애해야 했다.
한편, 시편 연마시 연마 방향이 고르지 못 할 때와 전에 연마했던 연마 자국을 지우지 못하고 다음 연마로 들어갈 때 전에 연마한 흔적이 최종 연마 후에도 남는 경우가 있다. 그런 경우에, 최종연마 단계까지 갔을 때에 그 흔적이 남아 그 부분만 크랙이 생겨 관찰이 용의 하지 못하게 된다. 또한 다음 단계로 넘어가는 경우 시편에 묻어있는 연마 찌꺼기 역시 크랙이 생기게 하는 중요한 원인이 될 수가 있으므로 조심해야한다.

키워드

탄소강 ,   마운팅,   부식