목차
● 서 론
● 나노급 반도체용 EUV 리소그래피 기술
● EUV 리소그래피 기술의 중요 쟁점
● 결론
● 출처 및 참고
● 나노급 반도체용 EUV 리소그래피 기술
● EUV 리소그래피 기술의 중요 쟁점
● 결론
● 출처 및 참고
본문내용
아직 파워 목표치에 달하는 값을 내놓지 못하고 있어 많은 연구가 필요한 분야로 생각된다.
● 결론
현재 알기로는 Lithography 독보적 선두기업인 네덜란드 기업 ‘ASML’이 EUV 기술과 장비를 보유하고 있으나 EUV Lithography 장비 1대의 가격이 현대 전투기 1대의 가격으로 상용화에는 아직 큰 어려움이 있어 보인다.
나노급 반도체용 EUV Lithography는 분명 매력적인 new technology임에는 틀림없다. 하지만 이를 구현하기 위한 기반기술의 부제가 문제가 되지만 위에 기술하였던 Mask patterning, Source 등의 문제가 해결되고, 반도체 공정에 상용화가 된다면 더욱 혁신적인 시대가 옴에 믿어 의심치 않는다.
재료공학과인 본인은 차세대를 위한 신기술은 ‘신재료, 신소재‘에서 시작하고 끝이 나며 다른 분야들은 중요는 하나 치명적이지 않을 것으로 생각하였다. 하지만 이번 조사를 통하여 비단 수많은 반도체 집적 및 공정 기술이 있으나, Photo Lithography 공정 하나의 주제로만 보고도 재료나 소재뿐만이 아닌 모든 기술들이 병행적으로 연구하고 관심을 가져야겠다는 시야가 생겼으며, 미래기술과 신소재, 기술의 흐름을 잡을 수 있는 연구 인력으로 성장해 나갈 것이다.
● 출처 및 참고
1. Principles of Semiconductor Devices(Dimitrijev, Oxford, 2005)
2. 한국과학기술정보연구원, 나노급 반도체용 EUV 리소그래피
3. http://www.semipark <기술동향>, NGL 기술개발현황
4. 네이버 과학 백과사전
● 결론
현재 알기로는 Lithography 독보적 선두기업인 네덜란드 기업 ‘ASML’이 EUV 기술과 장비를 보유하고 있으나 EUV Lithography 장비 1대의 가격이 현대 전투기 1대의 가격으로 상용화에는 아직 큰 어려움이 있어 보인다.
나노급 반도체용 EUV Lithography는 분명 매력적인 new technology임에는 틀림없다. 하지만 이를 구현하기 위한 기반기술의 부제가 문제가 되지만 위에 기술하였던 Mask patterning, Source 등의 문제가 해결되고, 반도체 공정에 상용화가 된다면 더욱 혁신적인 시대가 옴에 믿어 의심치 않는다.
재료공학과인 본인은 차세대를 위한 신기술은 ‘신재료, 신소재‘에서 시작하고 끝이 나며 다른 분야들은 중요는 하나 치명적이지 않을 것으로 생각하였다. 하지만 이번 조사를 통하여 비단 수많은 반도체 집적 및 공정 기술이 있으나, Photo Lithography 공정 하나의 주제로만 보고도 재료나 소재뿐만이 아닌 모든 기술들이 병행적으로 연구하고 관심을 가져야겠다는 시야가 생겼으며, 미래기술과 신소재, 기술의 흐름을 잡을 수 있는 연구 인력으로 성장해 나갈 것이다.
● 출처 및 참고
1. Principles of Semiconductor Devices(Dimitrijev, Oxford, 2005)
2. 한국과학기술정보연구원, 나노급 반도체용 EUV 리소그래피
3. http://www.semipark <기술동향>, NGL 기술개발현황
4. 네이버 과학 백과사전
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