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발전에 동참을 하여야 할 것이라는 것과 정부와 기업도 지속적이고 현실적인 투자와 지원을 집중해야 한다는 것이다. 1. 리소그라피에 대하여
2. 임프린팅 기술
3. 한국의 나노 임프린팅 기술
4. 세계 나노 임프린팅 기술 시장 전망
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리소그라피 : 흡수도가 매우 높아 투과율이 좋은 PR개발이 급선무
(가) 친수성 조절(collapse 해결) 및 해상도, 건식 식각내성을 높여야 함
(나) 대비책 : 얇은 resist사용, 두꺼운 mask사용 , pellicle사용
(2) EUV(extream ultra violet) 리소그라피 : 오히려 CAR
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리소그라피)
E-beamLithograph는 반도체 웨이퍼 위에 전자에 예민한 성질을 가지고 있는 레지스트 (resist)를 얇게 바른 후, 원하는 패턴을 마스크 없이 직접 전자빔를 가하여 그림을 그리거나 글씨를 쓰는 것과 같은 방법으로 회로를 구성한다. 전
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리소그라피)
E-beamLithograph는 반도체 웨이퍼 위에 전자에 예민한 성질을 가지고 있는 레지스트 (resist)를 얇게 바른 후, 원하는 패턴을 마스크 없이 직접 전자빔를 가하여 그림을 그리거나 글씨를 쓰는 것과 같은 방법으로 회로를 구성한다. 전
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리소그라피 공정기술
EUV광원, soft X-ray 광원을 이용한 수차 최소화 방법론 개발, 위상차 마스크제작, X-선 박막 흡수체 형성, 결함측정 등의 기술과 관련 소프트웨어를 개발하고 광리소그라피 공정기술 개발
'02∼'06
(5년이내)
후보
16.스핀정보
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