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정밀화학 고분자 소재가 사용된다. 그 중에서도 고해상도(CD)를 달성하는 감광재료인 포토레지스트는 반도체 제조에 있어서 집적도를 결정하는 미세가공기술용 첨단 정밀화학 소재로서 잘 알려진 광화학 반응과 고분자 화학에 기초를 두고
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레지스트와 포토레지스트 및 배향막 등 디스플레이용 화학재료 사업을 올해부터 크게 강화할 예정이다. ▪ Photolithography의 정의
▪ Photolithography의 세부 공정 및 재료
TFT 부분
COLOR FILTER 부분
▪ Photolithography의 현 사용현황
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경유하는 다이렉트 제판에까지 발전하고 있다. 복사기나 레이저 프린트용의 광도전성 드럼(Drum)은 그 일례이다. (1) 포토레지스트(photoresists)
(2) 디프 UV레지스트(Deep UV resist)
(3) 전자 레지스트
(4) X선 레지스트
(5) 광기록 재료
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포토레지스트의 기술 동향, 한국고분자학회
송태복 외 2명(2011), 자동차산업 기술혁신의 동학적 분석, 한국기술혁신학회
이성수(2011), 특허보호강화가 우리나라 제약산업의 기술혁신에 미치는 영향, 한국경영교육학회
차철호(2001), 기술·지식
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포토레지스트패턴을 형성할 수 있는 효과가 있다. 또한, 고비용의 포토리소그래피 장비를 사용하지 않아도 되므로 비용측면에서 유리할뿐만 아니라, 잔류층 제거를 위한 추가 식각공정을 진행하지 않아도 되므로 나노임프린트리소그래피 기
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