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전문지식 7건

CMP로서 가장 정밀한 평탄도 조절이 필요함. 일반적으로 평탄도 특성을 향상 시키기 위하여 Stopper Material을 사용함 소자영역과 금속배선간 절연막 평탄화 금속 배선층간 절연막 평탄화 B/L 또는 Cell Contact Pad Poly CMP 소자/배선간 또는 금속
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  • 등록일 2022.07.11
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Examples of Formulation Range of Hardness Pad 제품코드 체계 이해 Top Pad Hardness Top Pad Thickness R&H SKC KPC Pad란? R&H SKC KPC 15년 당사 Pad 사용 현황
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  • 등록일 2017.12.26
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Examples of Formulation Range of Hardness Pad 제품코드 체계 이해 Top Pad Hardness Top Pad Thickness R&H SKC KPC Pad란? R&H SKC KPC 15년 당사 Pad 사용 현황
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CMP Simulator Planarization Efficiency 의 차이← Pad, Slurry, Pressure etc. Current End Point Detection Methods Theoretical Background of Optical EPD Oxide CMP Using Silica Based Slurry Hydration of Oxide Layer : Softening the Surface Silica Abrasive : Mechanical Abrasion of Hydrated Oxide La
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  • 등록일 2021.02.09
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Delivery Arm Pad CHead onditioner 평탄화 패턴형성 Stopper Centering Mechanism Pedestal Load Cup Load Cup Rinse Jet Cup Lift Cylinder Pedestal Lift Cylinder Pedestal Rinse Jet CAT TRUCK FUME 도 입 Mirra CMP System Polishing 작업순서 주요 구성품 현 Mirra System의 문제점
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  • 등록일 2021.04.05
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취업자료 1건

CMP Pad등 제품을 생산하는 회사로 현재 아시아 최대 Polyether Polyol 단일 Plant를 갖추고 국내 우레탄 산업에 소요되는 일반 Base Polyol 뿐만아니라 특수 제품인 Polymer pllyol,PU system 등 국제 수준의 각종 Polyether Polyol 제품을 안정적으로 생산 공급하고
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  • 등록일 2018.02.09
  • 파일종류 한글(hwp)
  • 직종구분 기타
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