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thermal CVD에 비해서 좋지 않다. 또한 장치가 복잡하고 가격이 비싸 대량 생산이 어려운 단점이 있다.
6. Photo CVD
Gas phase나 표면에 흡착된 물질을 분해하기 위한 에너지원으로 광원을 이용하는 CVD 법이다. 광원의 에너지를 반응 기체의 활성화를
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Thermal CVD, Photo CVD, PECVD, LECVD 등으로 분류되었다. CVD 공정은 다른 박막 증착 공정보다 순도가 높고 대량생산이 가능하며, 공정조건의 제어 범위가 매우 넓어 다양한 특성의 박막을 사용할 수 있다. 그리고 무엇보다도 기판의 굴곡 및 3차원적 구
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cvd?
Principle of cvd
High purity and quality deposition
Good economy and process control
A great variety of chemical compositions
High step coverage
Selective deposition
AdvantageS of CVD
Classification of CVD
Thermal(conventional) CVD
- Operating Temp. : 800 1200 ℃
- Mass Products
- Hi
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CVD는 LED 제조에 많이 쓰이고 PVD는 PDP에서 금속 전극 및 유전체 증착과 도금 분야에 많이 쓰인다.
3.실험장치 및 시약조사
Convection Oven, Thermal Evaporator, Glass Substrate, Beaker, Crucible, Shadow Mask
(시약)
Acetone
화학식 CH3COCH3이다. 분자량은 58.08으로, 향기
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CVD)
2. 화학 기상 증착 (CVD)
분류기준 : 반응 에너지원
이름 : Thermal CVD
특징 : 반응기에 주입된 반응기체의 분해 및 박막 증착 시 열에너지를 이용하는 CVD 방법
이름 : PE CVD
특징 : Plasma Enhanced CVD로서, 반응기내
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