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of CoFeB Using CO/NH3 in an Inductively Coupled Plasma Etching System, Jong-Yoon Park외 5인, Journal of The Electrochemical Society, 158 1H1-H4 2011
[4] X. Peng. S. Wakeham, A. Morrone, A. Axdal, M. Feldbaum, J. Hwu, T. Boonstra, Y
Chen. and J. Ding: Vaccum 83(2009) 1007.
[5] Evolution of barrier-r
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of ZnO Thin Film Grown by Sputtering /S. M. Jung
ZnO film deposition on Al film and effects of deposition temperature on ZnO film growth characteristics / Yoon, Giwan ,
Growth of bulk single crystals under by liquid phase / Sheibani, H
The nano-micro interface: bridging the micro and nano worlds
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- Characteristics of Ti - alloys
- Titanium Ores
- World Production of Titanium
- Ti Consumption by Major Industries in the World
- Manufacturing Processes
- Various of Melting Process
- VAR
- Electron Beam Melting
- Plasma Arc Melting
- Electroslag Remelting (ESR)
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of commercialism which gra-tifies the pleasure-seeking mass consumers, the enlargement o-f the aesthetic category by inclining to everyday commonplace aesthetic sense, the expression of one's identity through the gratification of desire and the new aesthetics of resistance and de-viance by an anti-t
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of Plasma (Basic Concepts)
3.1 Degree of Ionization & Plasma Temp
3.2 Plasma Potential
3.3 Sheath Formation at a Floating Substrate
3.4 Bohm Criterion
3.5 Ambipolar Diffusion
Ⅱ. DC Glow Discharge
1. Architecture of the Discharge
1.1 Structure of DC Plasma
1.2 I-V characteristics of DC gl
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