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and Nanowires . Royal Society of Chemistry , 2005.
Nanowires and nanobelts : materials, properties, and devices /
Wang, Zhong Lin. Kluwer Academic Publishers , 2003.
The Properties Characterization of ZnO Thin Film Grown by Sputtering /S. M. Jung
ZnO film deposition on Al film and effects of d
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내식성 : 부식이 일어나기 어려운 성질
전기 전도성이 떨어진다. Sputtering을 이용한 Ti 증착
1.실험 목적
2.실험 이론
3.실험 방법
4.결과 및 토의
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3. 실험 방법
준비된 실리콘 웨이퍼를 로드락 챔버에 로딩
샘플 메인 쳄버에 로딩
주 공정챔버 :3x10-6torr 이하로 진공 분위기 만듬
MFC 밸브를 통해 working pressure 조절
RF power(전압)를 100W로 조절하여 Ar plasma 형성
체임버내에 주입되는 가스량
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and Iwamoto, N., 1998, Preparation of titanium oxide photocatalysts anchored on porous silica glass by a metal ion-implantation method and their photocatalytic reactivities for the degradation of 2-propanol diluted in water, J. Phys. Chem. B, 102(52), 10707～10711.
Yang, K., Dai, Y., Huang, B., and
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이용
(4) 특히 unbalanced magnetron이 미래의 큰 역할을 할 것으로 기대 1. Basic aspects of sputtering
2. Sputtering techniques
3. Plasma characteristic and ion bombardment
4. Process control
5. Application of sputtered hard coatings
6. Industrial coating systems
7. Future trends
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ReRAM
2. 비휘발성 메모리 시장 전망
2-1. 대기업 참여 현황
II. 본 론
1. NiO 물질을 이용한 ReRAM 특성 구현
2. 실험 방법
1-1. R.F Magnetron Reactive Sputtering Deposition
1-2. 전기적 특성 평가 (I-V)
3. 실험 결과 및 분석
III. 결 론
IV. 참고문헌
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and the adolescent self-image pronston, NJ,
Priceton university.
Schaubroeck, J. & Jones, J.(2000), "Antecedents of Workplace Emotional Labor Dimension and Moderators of Their Effects on Physical Symptoms", Journal of Organizational Behavior, 21. pp 163-183.
Shore, L. M. & Wayne, S. J.(1993), "Comm
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