|
Vapor depostion of coatings’, Progress in Materials
Science, 2003
[3] Stanley Middleman, K.Hochberg , 'Process Engineering Analysis in Semiconductor Device Fabrication', Mc Graw-Hill,Inc., 1995
[4] 황호정, ‘반도체 공정기술’, 생능출판사, 1999
[5] 윤현민, 이형기, '반도체 공학', 복두
|
- 페이지 11페이지
- 가격 2,000원
- 등록일 2008.12.21
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 있음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
vapor :
liquid :
이고 Fig 4.4 에 보라색으로 표시하였다.
여기에 아까구한 평균 온도를 대입하여 그 온도에서의 이론값으로 여길 Ethanol의 몰분율을 계산했다.
계산한 값은
vapor :
liquid :
이 값과 우리가 실험한 값과 비교하면
vapor :
liquid : 가 된
|
- 페이지 20페이지
- 가격 2,000원
- 등록일 2009.05.01
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 있음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
CVD chemical vapor deposition 화학시상증착 공정
화학기상증착 공정이란?
◉ 화학 반응을 수반하는 증착기술로서 부도체, 반도체, 그리고 도체 박막의 증착에 있어 모두 사용될 수 있는 기술
|
- 페이지 28페이지
- 가격 3,000원
- 등록일 2014.10.21
- 파일종류 피피티(ppt)
- 참고문헌 없음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
WHAT IS THIN FILM?
KIST Definition (1991)
- Thin Film : 기판층(substrate layer)에 형성된 수 m 이하의 두께를
갖는 것으로 독립적인 기능을 보유한 막.
ADVANTAGES OF THIN FILM
Complexibility and Accumulations
Easy processing
lm)
Easy Control of Thermal, Mechanical and Chemical Propert
|
- 페이지 10페이지
- 가격 1,000원
- 등록일 2008.12.21
- 파일종류 피피티(ppt)
- 참고문헌 있음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
Vapor-Liquid Equilibrium Data Collection, Chemistry Data Service, vol. 1, parts 1-8, DECHEMA, Frankfurt/Main, 1974-1990
- "Introduction to Chemical Engineering Thermodynamics", Smith, Page 420, Fig. 11.4
- "The Molecular Structure of Alcohol-Water Mixtures", Phys. Rev. Lett. 91, 157401 (2003), J. H.
|
- 페이지 26페이지
- 가격 2,500원
- 등록일 2008.11.14
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 있음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|