Zirconia Hydrofluoric Acid Etching Treatment

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전문지식 3건

	광학현미경및 에칭 acid Hydrogen peroxide (30%) 10 ml 10 ml 수초~수분 WC Nitride Ceramic 부 식 액 농 도 부 식 조 건 비 고 Thermal etching in high purity nitrogen 1600℃ 에서 수시간 Si3N4 Molten Salt Potassium hydroxide melt 수초~수분, Pt crucible Si3N4 Hydrofluoric acid 100% 10-15분 Si3N4 Boride Ceramics 부 광학 현미경 구조, 에칭 원리, 광학현미경및 에칭,	페이지 11페이지 가격 2,000원 등록일 2004.03.18 파일종류 한글(hwp) 참고문헌 없음 최근 2주 판매 이력 없음
	예비 보고서 - 부식액 조사 acid 15 ml 85 ml 5분~2시간 boiling Al2O3 Distilled water Sulfuric acid 50 ml 50 ml 1~5분간 boiling ZrO2 -5- 부 식 액 농 도 부 식 조 건 비 고 Thermal etching in high purity nitrogen 1600 C에서 수시간 Si3N4 Molten Salt Potassium hydroxide melt 수초~수분, Pt crucible Si3N4 Hydrofluoric 기초실험2, 부식액, 예비보고서, 기초실험2 부식액, 예비 보고서 - 부식액 조사,	페이지 7페이지 가격 1,500원 등록일 2022.12.23 파일종류 한글(hwp) 참고문헌 있음 최근 2주 판매 이력 없음
	[현미경 표준조직]탄소강 주철 Etching reagent　3％ Nital（Approx. 8s） Composition　C 0.88％，Si 0.28％，Mn 0.36％，P 0.020％，S 0.013％ Heat treatment　900℃X5h　Furnace cool（Anneaing） Hardness　180 to 200 HB etwork Cementite Magnification　×200 Etching reagent　3％ Nitric acid-Alcohol solution（Approx. 10s） Martensite Pearlite, Cementite Ferrite, [현미경 표준조직]탄소강 주철,	페이지 36페이지 가격 1,500원 등록일 2007.06.29 파일종류 피피티(ppt) 참고문헌 없음 최근 2주 판매 이력 없음