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Pattern에 맞는 Mask 준비한다. 총 4개(RGB,BM)
② Bare Glass를 준비하여 Spin-Coater에 넣고 지정된 안료 색을 Coating한다. (Black Matrix부터 시작)
③ Coating된 Glass를 Soft Bake 시켜 Polymer들의 접착력을 높혀 안정성을 증가해준다.
④ Mask를 align시킨 후 UV exposu
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PHOTOLITHOGRAPHY 란?
Photolithography 공정은 어떤 특정한 화학약품(Photo resist)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화하는 원리를 이용하여, 얻고자 하는 pattern의 mask를 사용하여 빛 을 선택적으로 PR에 조사함으로써 mask의 pattern과 동일한
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Mask
IC제작을 위해 각 Layer별 회로 Pattern이 그려진 유리판으로 각 패턴은 빛을 막는 불투명지역과 빛을 통과시키는 부분으로 구분되며 Mask상의 Pattern을 Wafer위에 옮겨 소자를 제작한다.(Reticle)
Overlay
하부와 상부 Mask 층들 사이의 정렬(Align)상태.
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Photolithography :
특정한 화학약품(Photo resist)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화하는 원리를 이용
얻고자 하는 pattern의 mask를 사용하여 빛 을 선택적으로 PR에 조사함으로써 mask의 pattern과 동일한 pattern을 형성시키는 공정 photo
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위치하게 하고 UV광을 mask를 통해 조사한다. 이 때 UV curing에 사용하는 광원은 sealant의 경화조건을 고려하여 선정해야 한다.
그림) UV를 이용한 소자 봉지 공정 ◈ OLED 공정
1. pattern형성 공정
2. 진공 박막증착 공정
3. 봉지공정
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