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받게 되며, 그 얇은 구조상 외부로부터의 응력에 취약할 수밖에 없다. 또한 일반적인 구조재료들은 제조 시 응력이 발생하게 되면 열처리 등을 통해서 응력제거 공정을 거치지만, 박막의 경우는 이런 경우가 드물다.
-intrinsic residual stress & therm
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Thin Film Formation I: Nucleation and Growth, Georgia Institute of Technology, U.S.A,
[4] H.J. Yearian, Intensity of Diffraction of Electron by ZnO,PHYSICAL REVIEW, Vol. 48, 1935, p.631-639 1. Abstract
2. Introduction
3. Experimental design
4. Expectation
4-1 구조인자계산에 따른 회
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Diffraction는 사용가능한 시료 즉, 금속, 합금, 무기화합물, 암석광물, 유기화합 물, 폴리머, 생체재료 등 무엇이든 가능하고 결정질 및 비정질재료 모두 측정가능하고 분말시료든지 판상, 액체, 리본, thin film시편 등에 대해서도 측정 제한이 없
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thin film 시편에 대해서도 측정이 가능하다.
③ 표준 물질의 데이터 파일(JCPDS card)과 대조해서 물질을 구별할 수 있다.
④ 결정의 면 간격을 정확히 측정하는 일이 가능하다.
⑤ 결정성 조사가 가능하다.
⑥ 결정의 배향성을 알 수 있다.
⑦ 회절
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thin film 시편에 대해서도 측정이 가능하다.
③ 표준 물질의 데이터 파일(JCPDS card)과 대조해서 물질을 구별할 수 있다.
④ 결정의 면 간격을 정확히 측정하는 일이 가능하다.
⑤ 결정성 조사가 가능하다.
⑥ 결정의 배향성을 알 수 있다.
⑦ 회절
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