단국대 반도체 공정 구용서교수님 과제

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단국대 반도체 공정 구용서교수님 과제에 대한 보고서 자료입니다.

목차

1.DI Water
2.Class
3.ASR-P와 SIMS
4.Oxide thickness measurement
5.RTP
6.유전율 조사
7.α-Si
8.SEM, TEM
9.Line stepper
10.EUV란?

본문내용

단국대 반도체 공정 구용서교수님 과제

목차
1.DI Water
2.Class
3.ASR-P와 SIMS
4.Oxide thickness measurement
5.RTP
6.유전율 조사
7.α-Si
8.SEM, TEM
9.Line stepper
10.EUV란?




1.DI Water

DI Water는 'Deionized Water'의 약자로, 이온이 제거된 물을 의미한다. 일반적으로 물 속에는 다양한 이온이 존재하는데, DI Water는 이러한 이온이 제거된 상태로, 순수한 물에 가까운 형태이다. 반도체 공정에서는 미세한 전자 소자가 제조되기 때문에 오염물질이 중요하다. 이때 DI Water는 이러한 오염물질을 제거하는 역할을 하며, 제품의 품질에 직접적인 영향을 미친다. DI Water의 제조 과정은 ion exchange resin을 사용하는데, 이 과정에서 물 속의 양이온과 음이온이 각각 제거 된다. 물이 처음에는 일반적인 수돗물이나 지하수 같은 형태로 들

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