본문내용
냉각기
ㆍ용매의 증기를 냉각하고 응축하여 다시 본디의 용기 안으로 돌려
보내는 유리 기구
500ml 4구 플라스크
ㆍ부피측정·반응·증류 등에 사용되는 이화학 실험용 기구
ㆍ보통 얇은 유리로 만들어진 가는 원통형의 목부와 여러 가지
모양으로 된 몸통부를 가진 용기
ㆍ일반적으로 플라스크라고 하는 경우에는 단순한 둥근바닥 플
라스크 및 넓적바닥 플라스크를 가리키는데, 목적에 따라
여러 가지 플라스크가 사용된다.
교 반 기
ㆍ액체와 액체, 액체와 고체, 또는 분체(粉體) 등을 휘저어 섞기
위한 기구.
물 중 탕(워터배스)
ㆍ바깥 온도의 영향을 받지 아니하고 항상 일정한 온도를 유지하
도록 만든 용기.
적하깔때기
ㆍ화학 실험에서, 액체를 한 방울씩 떨어뜨릴 때 쓰는 깔때기.
비 커
전자저울
4. 실험 방법
① 교반기, 환류냉각기, 온도계 및 적하깔때기가 장비된 500ml 4구 플라스크에 폴리비닐 알코올 0.64g 또는 현탁액 2~3방울을 증류수에 120ml에 혼합한 용액에 가한다.
② 벤조일 퍼옥사이드 0.2g을 메틸메타크릴레이트 20g에 혼합한 용액에 가한 다음 질소기류를 통과시켜 반응기내의 공기를 모두 제거한다.
③ 메틸메타크릴레이트가 액체 전체에 균일하게 분산되도록 300rpm으로 교반한다.
④ 반응기를 물중탕에 담그고 가열하여 물중탕의 온도를 90℃로 유지하고 3시간동안 반응시키면 중합은 거의 완료된다.
⑤ 반응이 진행되는 중에도 겔상의 입자가 생성되는데 교반기로 계속 교반하여 준다.
⑥ 교반을 계속하면서 반응물의 온도를 30℃까지 냉각시킨 후 냉각수 300ml를 가하여 반응물을 희석시키고 교반을 중지한다.
⑦ 생성된 고분자 비드를 침강시킨 후 수용액층을 제거한 후 이 세척과정을 수회 반복하여 고분자입자의 표면에 부착되어 있는 안정제를 제거한다.
⑧ 습기가 있는 비드를 얇게 편 다음 진공하 실온에서 건조한다.
5. 참고문헌
1) 고분자재료실험, 한국고분자학회, 자유아카데미, 1998, p.59 ~63
2) 안태완, “고분자 화학”, 문운당, 1992
3) 김지흥, 기초고분자화학, 시그마프레스, 2000, 제3장
4) 마석일외, 고분자화학, 형설출판사, 1998, 제2장
5) 인터넷 검색
- 한국 고분자 학회 : http://www.polymer.or.kr/
- wikipedia : http://en.wikipedia.org
- http://100.naver.com/100.nhn?docid=61691
ㆍ용매의 증기를 냉각하고 응축하여 다시 본디의 용기 안으로 돌려
보내는 유리 기구
500ml 4구 플라스크
ㆍ부피측정·반응·증류 등에 사용되는 이화학 실험용 기구
ㆍ보통 얇은 유리로 만들어진 가는 원통형의 목부와 여러 가지
모양으로 된 몸통부를 가진 용기
ㆍ일반적으로 플라스크라고 하는 경우에는 단순한 둥근바닥 플
라스크 및 넓적바닥 플라스크를 가리키는데, 목적에 따라
여러 가지 플라스크가 사용된다.
교 반 기
ㆍ액체와 액체, 액체와 고체, 또는 분체(粉體) 등을 휘저어 섞기
위한 기구.
물 중 탕(워터배스)
ㆍ바깥 온도의 영향을 받지 아니하고 항상 일정한 온도를 유지하
도록 만든 용기.
적하깔때기
ㆍ화학 실험에서, 액체를 한 방울씩 떨어뜨릴 때 쓰는 깔때기.
비 커
전자저울
4. 실험 방법
① 교반기, 환류냉각기, 온도계 및 적하깔때기가 장비된 500ml 4구 플라스크에 폴리비닐 알코올 0.64g 또는 현탁액 2~3방울을 증류수에 120ml에 혼합한 용액에 가한다.
② 벤조일 퍼옥사이드 0.2g을 메틸메타크릴레이트 20g에 혼합한 용액에 가한 다음 질소기류를 통과시켜 반응기내의 공기를 모두 제거한다.
③ 메틸메타크릴레이트가 액체 전체에 균일하게 분산되도록 300rpm으로 교반한다.
④ 반응기를 물중탕에 담그고 가열하여 물중탕의 온도를 90℃로 유지하고 3시간동안 반응시키면 중합은 거의 완료된다.
⑤ 반응이 진행되는 중에도 겔상의 입자가 생성되는데 교반기로 계속 교반하여 준다.
⑥ 교반을 계속하면서 반응물의 온도를 30℃까지 냉각시킨 후 냉각수 300ml를 가하여 반응물을 희석시키고 교반을 중지한다.
⑦ 생성된 고분자 비드를 침강시킨 후 수용액층을 제거한 후 이 세척과정을 수회 반복하여 고분자입자의 표면에 부착되어 있는 안정제를 제거한다.
⑧ 습기가 있는 비드를 얇게 편 다음 진공하 실온에서 건조한다.
5. 참고문헌
1) 고분자재료실험, 한국고분자학회, 자유아카데미, 1998, p.59 ~63
2) 안태완, “고분자 화학”, 문운당, 1992
3) 김지흥, 기초고분자화학, 시그마프레스, 2000, 제3장
4) 마석일외, 고분자화학, 형설출판사, 1998, 제2장
5) 인터넷 검색
- 한국 고분자 학회 : http://www.polymer.or.kr/
- wikipedia : http://en.wikipedia.org
- http://100.naver.com/100.nhn?docid=61691