14E-beam_lithography_&_Imprint

목차

전자빔 노광기술이란?
전자빔 노광기술 시스템 구성
전자빔 노광 기술의 장단점
임프린트란?
임프린트 공정
나노 임프린트
(a) Thermal-type(NIL)
(b) UV-NIL
임프린트 기술의 장단점
질의 및 응답

본문내용

전자빔 노광기술이란?

10~100keV 의 높은 에너지를 갖는 전자 빔을 이용하여 집적회로 제작에 필요한 매우 미세하고 정밀한 패턴을 만드는 기술
0. 1㎛ 혹은 그 이하의 패턴의 생성 가능
높은 에너지의 전자 빔을 이용함으로 진공이 필요함

시스템구성

전자총
구성
음극 (Cathode): 자유전자 생성
전원 (electron source)
최근에 주로 LaB6 (Lanthanumhexaboride crystal) 와
고온 전계 방출기(Thermal field emitter)가 쓰임
양극(anode) : cathode와 전위차 형성
Grid 또는 Wehnelt : 방사전자 제어
제한 구경(limiting aperture) : 방사되는 전자의 통로

키워드

무지개,   반사의 법칙,   물방울,   반도체,   나노,   반도체공학,   공대,   반사