11Dry_Etching_CAIBE

목차

식각(Etching) 이란?
건식 식각(Dry Etching) 이란?
이온 식각(Ion Etching) 이란?
이온빔 식각(Ion Beam Etching) 이란?
CAIBE 방식 이란?
CAIBE 방식의 원리
CAIBE 방식의 반응 매커니즘
CAIBE 방식의 System
CAIBE 방식의 특징
CAIBE 방식은 어디에 이용되는가?
CAIBE 방식의 장/단점
질문하세요.

본문내용

식각(Etching) 이란?

노광 공정을 통해 형성된 감광제 모형(pattern)들을 마스크로 하고, 마스크 아래에 있는 부분과 외부로 노출된 부분들 사이에 화학 반응이 전혀 다르게 함으로써 마스크로 보호되지 않는 부분들이 공정이 진행됨에 따라 떨어져 나가게 하는 것.
식각 공정에 의하여 확산이나 이온 주입되어질 영역이 결정되어지고 도선들의 연결 작업이 이루어진다. 식각 공정은 식각 형태와 식각 방법에 따라 다음과 같이 분류된다.

식각의 종류

식각 형태에 따른 분류
등방성 식각 (Isotropic Etching)
이방성 식각 (Anisotropic Etching)

식각 방법에 따른 분류
습식 식각 (Wet Etching)
건식 식각 (Dry Etching)

키워드

무지개,   반사의 법칙,   물방울,   반도체,   나노,   반도체공학,   공대,   반사