목차
1. 반도체란?
2. 산화공정
▪ 습식산화, 건식산화
3. 사진공정
▪ 사진공정 과정
2. 산화공정
▪ 습식산화, 건식산화
3. 사진공정
▪ 사진공정 과정
본문내용
디스플레이설계 및 공정실습
1.반도체란?
▶사용자의 임의로 도체도 될수있고 부도체도 될수있는 것
▶순수한 반도체는 4가 원소로 이루어져 모든 전자가 공유결합을 이룬다. 여기에 5가 원소를 첨가하면 남는 전자가 발생하는데 이를 N형 반도체라 하고 3가 원소를 첨가하면 반대로 전자가 부족하게 되어 정공이 생기는데 이를 P형 반도체라고 한다.
≪ 그 림 ≫
2. 산화공정
▶ 산화공정은 반도체 소자 제조 공정 중 하나로 고온(800-1200℃)에서 산소나 수증기를 주입시키고 열을 가해 실리콘 웨이퍼 표면에 얇고 균일한 실리콘 산화막을 형성 시키는 공정이다
▶산화공정은 습식산화와 건식산화가 있다.
≪ 그 림 ≫
1.반도체란?
▶사용자의 임의로 도체도 될수있고 부도체도 될수있는 것
▶순수한 반도체는 4가 원소로 이루어져 모든 전자가 공유결합을 이룬다. 여기에 5가 원소를 첨가하면 남는 전자가 발생하는데 이를 N형 반도체라 하고 3가 원소를 첨가하면 반대로 전자가 부족하게 되어 정공이 생기는데 이를 P형 반도체라고 한다.
≪ 그 림 ≫
2. 산화공정
▶ 산화공정은 반도체 소자 제조 공정 중 하나로 고온(800-1200℃)에서 산소나 수증기를 주입시키고 열을 가해 실리콘 웨이퍼 표면에 얇고 균일한 실리콘 산화막을 형성 시키는 공정이다
▶산화공정은 습식산화와 건식산화가 있다.
≪ 그 림 ≫
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