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실험은 수행된다. 따라서 누름판과 시편사이의 마찰력이 중요한 인자로 작용을 한다. 변형이 일어날 때의 힘을 변형이 일어나기 전 시편 의 단면적으로 나눈 값으로, σ 로 표시하며 ㎏/㎤ 또는 Pa단위로 나타낸다.
2. 5. 2. 인장 실험
Figure 2.6에
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실험F. KVL, KCL 실험
1) 다음 회로를 구성하고, 어떤 loop에서 KVL이 만족하는지를, 한 node에서 KCL이 만족하는지를 확인하는 실험을 한다.
2) node A 에서의 KCL : 8.44mA + (-4.11mA) + (-4.35mA) ≒ 0
따라서 node A에서 KCL을 만족한다.
3) loop B 에서의 KVL : (-4.68V)
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실험데이터를 보면 알 수 있듯이 반지름이 더 큰 팽이가 더 오랫동안 돌아간다는 사실을 알 수 있다.
이는 위에서 탐구한 토크의 성질과 부합되는 결과이다. 반지름이 커질수록 토크가 커지게 되고 따라서 회전력은 더 커지게 된다. 그러면
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실험을 통하여 박막공정의 다양한 변수를 알아 보고 실제 박막을 제조하여 측정해 보았다. 1. 실험목표
2. 이론적배경
1)sputter 와 PLD 의 원리
2)여러 spurtter의 종류와 원리
3. 실험방법
▶ 장비의 작동방법:
▶ Photolithography 공정
▶ 공
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mA)
정상: -3∼6mA, 탈신경:-3이하 ( -1이하 이면 순응력 없다.) 제1장 전기치료의 역사
제2장 전기물리학
제3장 의용 전류
제4장 전기치료기기
제5장 전기 생리학
제6장 의용전류의 효과
제7장 전기 진단학
제9장 이온 도입 치료
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실험데이터와 잘 맞고 큰 n값은 수평표면에 보다 적합하다.
전자 부품에서의 열 발생장치의 냉각에서 통상적으로 열전달 계수가 작을 때는(자연대류) 보다 높은 온도에서 작동할 것이고, 열전달 계수가 클 경우(강제대류) 보다 낮은 온도에서
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꾸미기 전의 측정값
회로 중 multimeter의 저항 측정 기능 사용
전압계-전류계 법;
(그림 8(a))
전압계 눈금 (V)
(V/A)
전류계 눈금 (mA)
전압계-전류계 법;
(그림 8(b))
전압계 눈금 (V)
(V/A)
전류계 눈금 (mA)
II. 토의 사항 실험 보고서
목차 없음...
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2. 이론
(1) 검류계의 원리
(2) 검류계로 전류, 전압과 저항 측정하기
(3) Multimeter의 사용법
(4) 저항의 색채기호 읽기
(5) 커패시터의 정전용량(커패시턴스) 값 읽기
3. 실험기구
4. 실험 방법
(양식) 실험 결과 보고서
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실험에서 얻은 생성물의 결정구조 분석은 XRD(SIEMENS사, Model:D5000)를 이용하였다. X-ray 분석시 가속전압은 40kV, 30mA였으며, 측정각은 2θ가 20∼80o였다. 주사 속도는 0.05o/sec였고, X-선의 target으로는 Cu를 사용하였다. 또한 생성물의 미세구조를 관찰
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물리학 1996.02.25 Taylor,Zafiraton(번역 :김승곤, 류지욱 외4명)
3. 이공학도를 위한 물리학(Morden Physics, Second Edition) 1998.04.20 Kenneth Krane (번역 : 이철의, 강원 외2명)
4. 양자역학의 모험 2001-03.29 TCL(번역 :김종오, 박성근) 주)과학과문화
5. 현대물리실험
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