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원리
2. 홀로그래픽 리소그래피(Holographic Lithography) 시스템 구성
3. 감광제(Photoresist) 도포 조건의 도포 두께에 대한 영향 및 최적화
4. 노광시간(Exposure Time)의 영향 및 최적화
5. 실험 결과 및 고찰
Ⅲ. 실리콘 주형의 제작과 분광기의 제작
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원리
2.2 레이더의 원리
2.3 스텔스의 설계
2.3.1 형상설계
2.3.2 레이더흡수물질(RAM)
2.3.3 적외선(Infra-Red)
2.4 스텔스 기술의 적용- 항공기 운용
2.4.1 SR-71 (Black Bird)
2.4.2 F-117A (Night Hawk)
2.4.3 B-2A (Spirit)
2.4.4 F-22 (Rap
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시료들의 경우 PTMEG의 Tm이 HS 함량 23%인 시료들보다 4°C 정도 높은 온도에서 나타났으며 Tcc는 관찰되지 않았다. SAXS 분석결과 PU-Si 필름의 HS 함량이 23%인 경우와 HS 함량이 32%인 경우 모두에서 PDMS 함량 증가에 따라 산란 강도가 작아지는 경향을
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원리에 따라 부유한 교회, 궁핍한 교회가 공평케 되며 하나가 되어야 할 것이다. 이러한 원리는 먼저 교단 본부의 교회 부담금 제도에서 미자립 교회의 지원과 목회자의 최저 생계비를 계상한, 더욱 합리적인 집행이 최우선적으로 고려되어야
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원리 이다. 통상적인 MVA기술에서는 단위 화소를 4개의 도메인으로 구분하고 이들 각 도메인에서 액정분자의 배열방향을 서로 다르게 조절하여 호 보상효과로 시야각에 따른 시인성 변화를 최소화 시킨다. 돌기모양의 전극으로 인하여 액정을
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