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광학 리소그래피가 100nm 이하의 구조물을 제작하기 힘든 이유를 설명하시오.
▶ Homogeneous하게 박막을 제작할 수 있는 방법의 이름을 모두 열거 하시오.
▶ 분자성 박막과 일반적인 성장박막은 어떤 차이점이 있습니까?
▶ SAM 박막의 제작법
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광학회, 2010
조병일, 광리소그래피에서의 광근접효과 보정연구, 원광대학교, 2000 Ⅰ. 광양자설(광자설)
Ⅱ. 광검출기
1. 이동식카메라
2. 여러 가지 파장영역을 디텍트할 수 있는 반도체 소자
3. 디지털카메라
Ⅲ. 광리소그래피
Ⅳ.
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광학 현미경을 이용한 선표준물 측정 시스템 개발, 한국정밀공학회
▷ 김윤희(2008), 형광현미경의 임상적 활용에 대한 교재개발과 실기교육, 전주기전대학
▷ 김진태 외 2명(2010), 전자 현미경을 이용한 전자빔 리소그래피 장치의 구현, 한국물
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리소그래피(NIL, NanoImprint Lithography)
마이크로 접촉 인쇄 (μCP, MicroContact Printing)
복사조형(REM, Replica Molding)
마이크로 전사 조형 (μTM, Microtransfer Molding)
전통적인 리소그래피
전통적인 리소그래피 : 광학 리소그래피
마스크의 패턴를 감광저
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광학적 수차가 심하다.
⑦ X-선 리소그래피
X-선은 파장이 짧으므로 이론적으로는 서브 미크론 크기의 패턴을 리소그래피할 수 있는 방법이다. 그러나 X-선을 차폐할 수 있는 마스크가 아직 개발되지 않아서 실용화되지 못하고 있다. 또한, 장
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Lithography Technique" , Yonsei Univ. , 2004
7. Eugene Hecht, OPTICS, Addison-Wesley, 2001, pp.476-479. Ⅰ. 서 론
1. 연구 배경
2. 연구 목적
Ⅱ. 홀로그래픽 리소그래피 시스템을 이용한 나노 패턴 제작
1. 홀로그래픽 리소그래피(Holographic Lithography) 시스템
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6_Flexible Display (고려대학교 권재홍, 정진
욱, 이영훈, 이원희) 1. 서 론
2. 이 론
1) PDMS (Polydimethylsiloxane)
2) Nano Transfer Printing
3) Decal Tranfer Lithography (DTL)
4) ITO (Indium Tin Oxide)
3. 실험방법
4. 결과 및 고찰
5. 결 론
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