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원리
2. 홀로그래픽 리소그래피(Holographic Lithography) 시스템 구성
3. 감광제(Photoresist) 도포 조건의 도포 두께에 대한 영향 및 최적화
4. 노광시간(Exposure Time)의 영향 및 최적화
5. 실험 결과 및 고찰
Ⅲ. 실리콘 주형의 제작과 분광기의 제작
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원리
2.2 레이더의 원리
2.3 스텔스의 설계
2.3.1 형상설계
2.3.2 레이더흡수물질(RAM)
2.3.3 적외선(Infra-Red)
2.4 스텔스 기술의 적용- 항공기 운용
2.4.1 SR-71 (Black Bird)
2.4.2 F-117A (Night Hawk)
2.4.3 B-2A (Spirit)
2.4.4 F-22 (Rap
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