|
칩과 같은 생물 센서 분야에 다양하게 실용화되고 있는 중요한 정밀화학 소재 연구분야이다 1. 감광성 고분자
(1) 디프 UV레지스트(Deep UV resist)
(2) 전자 레지스트
(3) X선 레지스트
(4) 광기록 재료
(5) 포토레지스트 감광재료
2. 전망
|
|
|
경유하는 다이렉트 제판에까지 발전하고 있다. 복사기나 레이저 프린트용의 광도전성 드럼(Drum)은 그 일례이다. (1) 포토레지스트(photoresists)
(2) 디프 UV레지스트(Deep UV resist)
(3) 전자 레지스트
(4) X선 레지스트
(5) 광기록 재료
|
|
|
X선사진 포토레지스트 등에 응용된다.
☆컬러의 화상 형성 원리
① 컬러네거티브필름의 현상은 발색현상, 표백, 정착 등의 과정을 거친다. 컬러네거티브필름이 발색 현상되면 각 유제층 에는 은 네거티브상과 색소네거티브상이 만들어진다.
|
|
|
레지스트 사용
- 50nm pattern형성 예측
(3) E-beam, X선 : 화학증폭형 레지스트 개념 적용
나. Photoresist 개발 방향
(1) 고흡광도
(2) 고감도화
(3) 고해상도
다. 정리를 마치며
lithography는 기술적으로도 반도체 프로세스의 핵심 기술로서 반도체 디바이
|
|
|
X선 자치가 채용될 것인가?
포토레지스트 재료, 엑시머 제이저 광원 등의 주변재료는 어디까지 광 노광기술의 연명을 서포트할 수 있을까?
미세화, 독특한 구조의 콘택트 홀, 메탈 패턴 등에 드라이에칭 기술이 대응할 수 있을까?
등이 향후
|
|
메뉴펼치기
