목차
1.본인에 대하여 자유롭게 소개하여 주시길 바랍니다.
본문내용
여 이전의 0.003 Torr 압력을 회복했습니다.
마지막으로, 장비 내 불순물 문제를 해결했습니다. 화학 반응을 위해 유입되는 Ar 가스의 출구에 쌓인 전구체가 펌프 성능을 저하시키고 있었습니다. 톨루엔과 아세톤을 사용하여 내부 불순물을 제거함으로써, 압력을 0.001 Torr까지 개선할 수 있었습니다.
이러한 개선을 통해 최적화된 설비 상태에서 공정 변수와 박막 퀄리티 간의 상관관계에 관한 논문을 교내 잡지에 게재할 수 있었습니다. 이 연구는 최적의 박막 제조에 기여하는 중요한 발견이었습니다. 이 경험을 통해, 설비에 대한 정확한 이해가 탁월한 공정을 만든다는 중요한 교훈을 얻었습니다. ASML에서 최고의 CS 엔지니어가 되어, 더욱 정밀한 설비를 통해 최고 수준의 반도체 생산에 기여하고자 합니다.
마지막으로, 장비 내 불순물 문제를 해결했습니다. 화학 반응을 위해 유입되는 Ar 가스의 출구에 쌓인 전구체가 펌프 성능을 저하시키고 있었습니다. 톨루엔과 아세톤을 사용하여 내부 불순물을 제거함으로써, 압력을 0.001 Torr까지 개선할 수 있었습니다.
이러한 개선을 통해 최적화된 설비 상태에서 공정 변수와 박막 퀄리티 간의 상관관계에 관한 논문을 교내 잡지에 게재할 수 있었습니다. 이 연구는 최적의 박막 제조에 기여하는 중요한 발견이었습니다. 이 경험을 통해, 설비에 대한 정확한 이해가 탁월한 공정을 만든다는 중요한 교훈을 얻었습니다. ASML에서 최고의 CS 엔지니어가 되어, 더욱 정밀한 설비를 통해 최고 수준의 반도체 생산에 기여하고자 합니다.
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