에칭이란 무엇인가(what is the etching)

소개글

에칭이란 무엇인가(what is the etching)에 대한 보고서 자료입니다.

목차

1. etching parameter
에칭에서 주로 사용되는 용어들에 대한 정리

2. dry etching
dry etching의 종류, 메커니즘, 사용되는 가스와 장단점 그리고 장비들을 보기 쉽게 정리

3. wet etching
wet etching의 종류, 메커니즘, 사용되는 용액과 장단점 그리고 장비들을 보기 쉽게 정리

4. dry etching과 wet etching의 비교
각 etching 법들에 대한 장단점을 정리하여 특정한 부분에서 어느 etching이 더 좋은가 에 대한 자료를 보기 쉽게 정리

5. Reference
출처

본문내용

Etch rate
Etch 𝑟𝑎𝑡𝑒=(△𝑑)/𝑡=(𝑡ℎ𝑖𝑛𝑘𝑛𝑒𝑠𝑠 𝑐ℎ𝑎𝑛𝑔𝑒 𝑎𝑓𝑡𝑒𝑟 𝑒𝑡𝑐ℎ)/(𝑒𝑡𝑐ℎ 𝑡𝑖𝑚𝑒)[Å⁄𝑚𝑖𝑛]

(Etch) Bias and Over Etch
the different in lateral dimensions between the etched mask and the etched pattern
the smaller RL cause the smaller bias

Lateral Etch Ratio (RL) Anisotropy (A)
𝑅_𝐿=(𝐻𝑜𝑟𝑖𝑧𝑜𝑛𝑡𝑎𝑙 𝐸𝑡𝑐ℎ 𝑅𝑎𝑡𝑒 (𝑟_𝐻))/(𝑉𝑒𝑟𝑖𝑐𝑎𝑙 𝐸𝑡𝑐ℎ 𝑅𝑎𝑡𝑒 (𝑟_𝑉)) 𝐴=(𝑟_𝑉−𝑟_𝐻)/𝑟_𝑉

Isotropic etching
having the same rate of etching in both vertical and horizontal direction
related to chemical process

키워드

etching,   에칭,   wet etching,   dry etching,   습식에칭,   건식에칭,   에칭원리,   에칭 가스,   에칭 용액,   에칭 etching