전자전 기술

목차

□ 제 목 : 전자전 기술
□ 총 페이지수 : 6
□ 목 차:
1. 머리말
2. 전자전의 분류
3. ESM 기술
4. ECM 기술
5. 맺음말

레이더가 표적을 탐지하기 위해 전자파 빔을 방사시키면, 상대측(표적)은 레이더에서 방사된 전자파를 수신 및 분석하여 전파방해를 가한다. 따라서, 레이더는 전파방해를 받지 않기 위한 대책을 마련해야만 한다. 제2차 세계대전 중에 영국과 독일에서 레이더에 대한 전자전(EW : Electronic Warfare)이 최초로 실시된 이래, 레이더의 발전과 더불어 수신 및 분석 행위를 하는 전자지원책(ESM : Electronic Support Measures)과 전파 방해 행위를 하는 전자방해책(ECM : Electronic Countermeasures)이라는 전자전 기술이 발전해 왔다. 현재 레이더는 사용 목적에 따라 다양하며 각각 다른 주파수를 사용하고 있다. 또한 동일한 목적의 레이더라도 레이더 상호간의 전파간섭 현상을 피하기 위해 서로 다른 주파수를 사용한다. 그 때문에 레이더는 일반적으로 매우 넓은 범위의 주파수 대역에서 운용되고 있는 것이다.

본문내용

에 포함시켜 구조체로 만든 것이 연구되었다. 더욱이 근래에는 탄소조직을 이용한 흡수체는 가볍고 강한 강도를 지닌 구조체가 되므로 스텔스 항공기 제작에 이용되고 있다.
4.4 ECM 기술의 과제
새로운 ECM이 고려되면 이에 대항하는 ECCM 수단이 반드시 등장한다. ECM은 더욱 새로운 기술을 이용하여 ECCM에 대응해야만 한다. 최근의 ECM 기술로서 스텔스 기술은 레이더의 탐지 거리를 현격하게 줄이고 있다. 이 때문에 능동적인 방해 수단을 이용하지 않더라도 자체 방어가 가능해지나, 한편 스텔스 기술도 저주파를 사용하는 레이더와 다중 송수신 분리형(multistatic) 레이더에 대해서는 그 효과를 충분히 발휘할 수 없다. 이 때문에 향후에도 광대역의 전자파에 대한 대책 등이 과제이다. ECM 시스템의 핵심 소자인 디지털 고주파 메모리(DRFM)와 전압 제어 발진기(VCO : Voltage Control Oscillator)는 최신 반도체 기술을 이용하여 소형이면서 지연이 작은 장치가 되어 기존의 ECM 시스템을 성능 개량시키고 있다. 또한 기만 기술에 있어서는 그림 10과 같은 광기술을 적용한 새로운 디코이 기술도 고려되고 있다. 본래 마이크로파는 동축 선로에서 전송하면 감쇠가 매우 커지나, 빛으로 변환하여 광섬유를 통해 전송되면 그 전송 손실은 크게 개선되어 우수한 기만장치를 구성할 수 있다. 또한 향후 레이더 센서가 분산 배치되어 네트워크로 구성되는 경우는 단일 센서를 방해해도 그 효과는 최소화된다. 이와 같은 시스템에는 또한 새로운 ESM 및 ECM 대책이 필요할 것으로 전망된다.
그리고 향후의 ECM 수단으로서 지향성 에너지 무기는 고속으로 비행하는 미사일의 센서 등을 순간적으로 무력화시킬 수 있는 잠재력을 갖추고 있어 매력적이다. 따라서 고출력 레이저와 고출력 마이크로파(HPM : High Power Microwave)가 연구되고 있으며, 소형화, 고출력화 및 표적 추적을 위한 빔 제어기술 등의 과제가 더욱 더 연구되어 질 것으로 전망된다.
5. 맺음말
ESM과 ECM은 전자전에 있어 핵심이며 그로 인해 여러 가지 대책이 고려되고 있다. 본 고에서는 지면상의 이유로 충분히 설명할 수 없었던 부분이 있으나, 흥미를 느낀 사람은 관련 문헌을 읽어보면 좋겠다. 마지막으로 ECM, ESM 기술은 매우 광범위하므로 다소 독단과 편견으로 기술한 감이 있을지도 모르니 이 점 이해해 주시기 바랍니다.

키워드

전자전 기술,   ECM 기술,   ESM 기술,   전자지원,   전자방해