목차
1.Plasma란?
2.Plasma의 생성
3.Plasma의 특성
4.Chamber 내에서의 DC 플라즈마
5.Chamber 내에서의 RF 플라즈마
Symmetrical System
Asymmetric System
2.Plasma의 생성
3.Plasma의 특성
4.Chamber 내에서의 DC 플라즈마
5.Chamber 내에서의 RF 플라즈마
Symmetrical System
Asymmetric System
본문내용
Plasma란?
Plasma의 생성
Plasma의 특성
Chamber 내에서의 DC 플라즈마
Chamber 내에서의 RF 플라즈마
Symmetrical System
Asymmetric System
이온화 된 기체
→ 물질의 제4상
구성 :
(-) 전위의 전자
(+) 전위의 이온
이온화 되지 않은 자연상태의 원자와 분자
박막공정내 이온화 정도 (0.1 torr)
전자의 수 : 109 ~1011 전자/cm3
이온화 되지 않은 원자나 분자 수 : 3 ⅹ1015 분자/cm3
가속이 덜 된 상태는 이온화에 영향을 주지 못함.
충돌할 확률이 적어도 이온화에 어려움.
즉 적당한 압력과 적당한 전압 필요
Plasma의 생성
Plasma의 특성
Chamber 내에서의 DC 플라즈마
Chamber 내에서의 RF 플라즈마
Symmetrical System
Asymmetric System
이온화 된 기체
→ 물질의 제4상
구성 :
(-) 전위의 전자
(+) 전위의 이온
이온화 되지 않은 자연상태의 원자와 분자
박막공정내 이온화 정도 (0.1 torr)
전자의 수 : 109 ~1011 전자/cm3
이온화 되지 않은 원자나 분자 수 : 3 ⅹ1015 분자/cm3
가속이 덜 된 상태는 이온화에 영향을 주지 못함.
충돌할 확률이 적어도 이온화에 어려움.
즉 적당한 압력과 적당한 전압 필요
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