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것 같고 플라스크를 흔드는 과정에서 잘 흔들어 질수록 반응이 더 빨리 일어나기 때문에 실험마다 반응속도의 오차가 생길수 있었다. 1.실험제목: 화학반응속도
2.실험목적
3.서론 및 정리
4.시약 및 기구
5.실험 방법
6.결과
7.고찰
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실험』, 형설출판사, 1982
한명규, 『최신식품화학』, 형설출판사, 2002
송재철, 박현정 공저, 『최신식품가공학』, 유림문화사, 2000
각주>
강윤한 외 3인 공저, 『식품가공학실험』, ㈜북스힐, 2004, 59p
[두산백과] 글리시닌 1. Abstract
2. 서론
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물리증착법 : Physical Vapor Deposition)
1. PVD에 의한 코팅방법
2. PVD에 의한 코팅법 종류
3. PVD에 의한 코팅법의 방법 및 원리
1 Evaporation Process
2 Sputtering Process
3 Ion Plating Process
Ⅱ. CVD (화학기상증착 : Chemical Vapor Deposition)
1. CVD 정의
2. CVD 응용범위
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실험을 해보고 싶고, 봄베 열량계를 사용하여 실험을 해보고 싶다.
7. References (참고문헌)
‘열계량’ 프린트물
HIGH TOP 화학2 열계량 (결과)
1. Abstract (요약)
2. Introduction (이론 및 배경)
3. Experimental (준비물 및 실험방법)
4. Results (
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실험목적
2. 이론
1) 평형의 정의와 평형조건
2) 열역학 법칙들
3) 기-액 평형
4) 기-액 상평형이 어디에, 어떻게 적용되는가?
5) 화학 퍼텐셜
6) 깁스 자유에너지
7)라울의 법칙
8) fugacity(coefficient) & activity(coefficient)
9)Antoine Equation
10) 기-액
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(4) Reference
1),3),6) Principles of Modern Chemistry, fourth edition, Oxtoby & Gillis & Nachtrieb, 1999, pp 362-363, pp 349-350, pp 423-424
4) 정성분석, 제 1판, 최규원, 寶普薺, 1969, pp 141
2),5) 일반화학, 제 7판, Steven S. Zumdahl, 김태린 역, 일신사, 1996, pp 627, pp735-736
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실험목적----------------------1 page
2. 이론적 배경-----------------1～4 page
(1) Al-Si 합금을 사용하는 이유
(2) Si
(3) Al의 성질
① 물리적 성질
② 기계적 성질
(4) 가열로
(5) 도가니
(6) 비커스 경도기
(7) 기계톱
3. 실험 준비물-------------------4 page
4. 실험
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실험”, 자유아카데미(1993)
2. 김태호, “고분자 과학”, 시그마 프라스(1991)
3. Malcom P. stevens, “고분자화학 입문", 자유아카데미(1997)
4. 서은덕, “유기공업화학”, 경남대학교 출판부(1998)
5. 장지익, “고분자 화학과 재료”, 형설출판사(1998)
6.
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실험
Ⅴ. 산화환원적정과 과망간산법
1. 산화 환원 적정
2. 종말점 결정
3. 적정에 사용되는 대표적인 산화제
4. KMnO4 의 산성용액에서의 반응
5. 황산 산성용액에서 철(II)염과 과망간산칼륨의 반응
6. 1M 의 KMnO4 용액의 노르말 농도
Ⅵ.
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실험을 하였다. 이때의 진행되는 방향은 항상 쌍방향이나 정반응의 물질의 농도가 진하면 정반응이 더 활발히 일어나고 반대의 경우 역반응이 더 활발히 일어난다. 이러한 원리를 색 변화를 통해 보게 되니 신기했다. 또한, 염화코발트를 농
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