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그래핀의 개발은 아직 초기단계에 머무르고 있는 실정이라 모서리 부분의 확실한 제어는 불가능한 상태이다. 게다가 그래핀을 생산하는데 있어서도 대량생산을 할 수 있는 기술이 없다. 앞에서 언급했던 공정방식으로는 대량생산이 힘들다.
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gate oxide
이렇게 축소를 한없이 할 수 있겠는가 라는 의문이 나온다. 여기에는 몇 가지 한계가 있는바 우선 gate oxide 두께는 20 Å 이하가 되면 carrier가 직접 tunneling되어 capaticive coupling이 깨지게 된다. S/D 영역과 gate가 hotelectron Limits of a Si-tra
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그래핀이라고 한다. 이 한겹의 탄소층은 흑연을 이루고 있는 기본 단위이기 때문에 새로이 발견된 탄소동소체라 할 수는 없지만, 흑연에서 떨어져 나온 그래핀은 흑연과는 전혀다른 성질을 가진다는 점에서 신소재라 할 수 있겠다. What is
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그래핀의 상용화
국내 연구진이 세계 최초로 그래핀을 크게 만드는 생산 공정을 개발했다. 그래핀의 10%~30%까지 휠수도 접을수도 있는 특성으로 들고 다니는 투명 디스플레이 등에 활용 할 수 있는 것이다.
[그림 : 대량생산으로 만든 투명한
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그래핀의 상용화
국내 연구진이 세계 최초로 그래핀을 크게 만드는 생산 공정을 개발했다. 그래핀의 10%~30%까지 휠수도 접을수도 있는 특성으로 들고 다니는 투명 디스플레이 등에 활용 할 수 있는 것이다.
[그림 : 대량생산으로 만든 투명한
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