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피막도장을 실시하였고 이때 바탕처리를 포함한 도장과정 및 설치과정을 Fig 5에 나타내었다.
도장 시스템명 : 내후성강용 안정 산화피막 도장시스템
1) 표면처리 : SIS Sa 2½ 이상 blasting
2) 하도 : RIMA-3 코팅재 (무기 Zn-Al계) 도막두께 75㎛
3) 건조
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안정한 생산이 가능.
그림 11 히라노의 그라스기판 박막 Coater : CAP Coater Ⅱ
그림 12 히라노텍시드의 CAP Coater Ⅱ 구조도
그림 13 Stork의 스크린방식 Hot-melt형 코팅기
그림 14 Technotwin의 투습방수 이미지
결론
지금까지 최근 일반가공기술의 특징과
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산화 티탄막의 성장을 유추 할 수 있다. 알루미늄 양극산화와 마찬가지로 산화티탄의 기공 또한 전압의 조절로 조절할 수 있다. 전압조절을 이용해 원하는 성질을 지닌 산화피막을 얻을 수 있다. 그리하여 용도에 적합한 광촉매를 제조 할 수
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시스템의 설계
배관 계통의 공기 제거
물속에 기포가 존재하면 산화작용이나 침식에 따라서 관내에 부식을 발생시킨다. 기포를 제거하는 방법으로는 기수분리기나 자동공기밸브사용, 이들장치는 공기가 모이는 곳이나 발생하는 장소에 설
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산화피막처리의 일반 공정도
Ⅴ. 결론
앞에서 살펴본 거와 같이 보호피막을 생성하여 부식 및 마모를 막아주며 칼라코팅, 페인트 및 유기코팅의 하자처리에 쓰이는 등 이러한 목적을 위한 양극산화에 대해서 깊이 이해하고 꾸준히 공부하여
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