|
른 방법은 최근 발달한 박막제조기술을 이용한 박막 써미스터의 개발이다. 박막 써미스터는 알루미나, Si 웨이최 등의 기판 위에 스퍼터링(sputtering) 또는 진공증착(evaporation) 등의 방법으로 감열체및 전극을 약 0.1~10rm의 두께로 형성한 것으로
|
|
|
채널이 넓어져 ID가 증가하도록 만든 것을 증가형이라 한다. 1. CCD 이미지 센서 - 시각
2. 감압다이오드 (減壓－ pressure sensitive diode) - 청각
3. 스트레인 게이지 - 촉각
4. 서미스트 - 온각
5. 가스센서 - 취각
6. 이온검출 FET - 미각
|
|
|
서미스트(thermistor)
형성사진
상세 사항
① 온도가 상승하면 전기 저항값이 민감하게 감소하는
성질이 있는 반도체 소자
② 망간, 니켈, 코발트, 철, 동, 티탄 등의 금속 산화물을
소결해서 만듬
③ 구조적으로는 직접 전류를 통해 가열하는 직
|
|
|
서미스트(thermistor)
형성사진
상세 사항
① 온도가 상승하면 전기 저항값이 민감하게 감소하는
성질이 있는 반도체 소자
② 망간, 니켈, 코발트, 철, 동, 티탄 등의 금속 산화물을
소결해서 만듬
③ 구조적으로는 직접 전류를 통해 가열하는 직
|
|
메뉴펼치기
