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AIPEL (Atomic Image Projection Electron-beam Lithography)로 명명된 이 전자빔 리소그래피 기술은 고분해능 투과전자현미경을 이용하여 옹스트롬 (Å: 1Å = 10-10 m) 크기의 원자 이미지를 수십배에서 수백배의 영역에서 확대한 이미지를 얻고, 이를 이용하여
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리소그래피 기술
(광, 전자선 제외)
신개념의 원리 및 기술을 적용하여 50 nm급 패턴제조기술, 선택적 화학반응을 통한 패턴 형성 및 유.무기 다층박막(두께:10nm이하)의 제조가 가능한 경제적인 패터닝 기술 개발
'02∼'06
(5년이내)
후보
13.나노
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신개념 소자 및 회로 설계를 통해 에너지 효율적인 반도체 시스템 구현이 가능합니다.
포항공과대학교 반도체공학과는 세계적인 반도체 연구 환경과 첨단 연구 시설을 갖추고 있으며, 미세공정, 신소재, 차세대 소자 연구 등 다양한 분야에서
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