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트랜지스터(Thin Film Transistor) 기술 개요
1.1 TFT 기술 개요
1.2 TFT 전체 제조 공정
2. TFT 단위공정 & 개선기술
2.1 TFT 단위공정 소개
2.1.1 박막증착 공정
2.1.2 식각 공정
2.1.3 포토리소그래피 공정
2.1.4 이온주입 공정
2.2 TFT 단위공정
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초박막액정표시장치 제조업이 유망업종으로 떠오른 뒤 높은 휘도와 명암비율, 소비전력 등을 낮추려는 연구가 진행 중이다. 특히 가장 중요한 문제인 색깔 변화를 최소화하기 위해 여러 종류의 화소 전극을 사용하는 동시에 광(光) 필름을 사
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트랜지스터 액정표시장치(TFT LCD)로 대체되려는 움직임이 나타나고 있다. 21세기의 문을 여는 2000년에는 이같은 움직임이 가시화할 것으로 예상되고 있다. 따라서 일부에서는 다가오는 21세기는 TFT LCD의 시대라고 말하고 있다.
또한 모니터시
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확보하는 glass frit seal을 사용해야 했다. 이 공정에서 고온 처리에 견디는 수평배향 재료로서 polyimide계 재료가 선정되었다. 이 후에 도공성, rubbing성, 배향제어능력, 화학적 안정성 등에 대해서도 다른 유기고분자에 비해 우수함이 확인 되고,
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초박막 액정표시장치 (Thin Film Transistor Liquid Crystal Display)의 약자로, 액체와 고체의 중간 특성을 가진
액정의 상태 변화와 편광판의 편광성질을 이용하여, 통과하는 빛의 양을 조정함으로써 정보를 표시하는 첨단 디지털디스플레이입니다. TFT-L
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