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투명 도전막의 제조 방법)
- 산화인듐주석 분말 및 그 제조 방법
- ITO film contact structure, TFT substrate and manufacture thereof
- Patterning of indium-tin oxide (ITO) for precision-cutting and aligning a liquid
- crystal display (LCD) panel
- Fabrication method and structu
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투명전극에서는 박막의 두께가 아주 중요한 요인이 된다. 두께에 따라서 투과율과 반사율이 달라지기 때문이다. 두께가 너무 많이 두꺼워지면 반사율이 커지고 빛의 간섭이 많아져 투과율이 작아질 것이고, 너무 얇으면 전기전도가 떨어지기
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Ⅰ. 실험 목적 : 차세대 디스플레이가 계속 출현하면서, AMOLED와 TFT-LCD의 성능도 같이 향상되었다. 그러면서 TFT소자에도 advanced된 성능과 저가격의 소자가 요구되었다. 그 중 Oxide와 Organic 반도체가 가장 주목 받고 있다. Oxide TFT를 만들 수 있는
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투명전극재료 (탄소 나노 튜브)
3. 투명전극재료 특성의 평가방법
(1)광학적 특성
(2) 전기적 특성
(3) 에칭 특성
4. 투명전극재료의 응용분야 및 그에 따른 성능값
(1) 각종 평판형 디스플레이의 투명전극
① LCD(liquid crystal display)
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디스플레이 역사(http://blog.daum.net/ridersoma/15831622)
디스플레이 서치(http://www.displaysearch.com/)
디스플레이뱅크(http://www.displaybank.com/)
삼성전자(www.samsung.com/sec/)
삼성SDI(www.samsungsdi.co.kr/)
LG디스플레이(www.lgdisplay.com/)
네이버 지식사전(http://terms.naver.co
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