|
intensity를 Energy에 대해 그려보면 왼쪽 그림 1.1과 같다.
Maximum emission intensity는
1
E = Eg + ────kT
2
Emission의 Full-width at half-maximum(FWHM)은,
1.8kTλ²
ΔE =1.8kT, λ = ──
|
|
|
maximum shear stresses and associated normal
stresses and show them on a sketch of a properly oriented element.
Solution 7.3-9 Shear wall
SECTION 7.3 Principal Stresses and Maximum Shear Stresses 439
1100 psi
480 psi
A
A
q
H
x 0 y1100 psi xy480 psi
(a) PRINCIPAL STRESSES
2p
|
|
|
The optimum annealing temperature for the maximum PL yield strongly depends on the film thickness and varies from 800 to 1200 °C.
The PL intensity is directly related to the content of the Si–-N bonds in the SiNx films.
Excessively high annealing temperatures lead to weakened Si–-N
|
|
|
intensity도 계산한다. vibrational frequency는 Cartesian nuclear coordinate에 관련된 에너지의 이차 미분의 결정과 그리고 나서 mass-weighted coordinates로 변환에 의해 계산된다.
- IRC (Reaction path following)
- IRCMax (Find the maximum energy along a specific reaction path)
- Scan (Po
|
|
|
Intensity Factor) K
3) 균열 끝에서의 응력분포
: for plane stress
: for plane strain
응력확대계수 K는 다음과 같이 공칭응력 및 균열길이의 함수로 표현된다.
: 부품의 형상에 따라 결정되는 무차원 계수
: 공칭응력(nominal stress)
a : 균열길이
※ K 값은 공
|
|
메뉴펼치기
