|
1. 반도체 노광 공정 시장 점유율
2. EUV용 Pellicle 시장 규모 및 개발 현황
3. EUV용 Mask 기술 현황_1(Mask Writing 장비)
4. EUV용 Mask 검사 기술 현황 및 시장 규모_1
5. EUV용 Mask 검사 기술 현황 및 시장 규모_2
6. EUV용 계측 기술 현황 및
|
|
|
Tech.
- Double exposure Tech.
- Self-Aligned double patterning Tech.
- Immersion Tech.
- X-ray Tech.
- Nano-imprint Tech.
- EUV Tech.
◈ 각 타입에 대한 공정 Table과 그에 대한 세부 설명
1. Double patterning and exposure
『<공정 테이블> 첨가』
|
|
메뉴펼치기
