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분말 제조, 희유금속소재연구소, 2002.
3. 김병일 외, 연속공정에 의한 고순도 탄탈륨 분말 제조, 과학기술부. 2003.
4. 박일 외, 도전체 매개반응법(EMR)법에 의한 미세 Ta 분말 제조, 전북대학교, 2004.
5. 홈페이지
재료정보연구센터, http://icm.re.kr
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TA(Turn Around )제도, 사업팀을 이양하는 사업지원팀제도 등이 모든 것이 바로 자율경영으로 변화하는 과정들인 것이다.
※노장사상의 특징을 기업의 적용시킨 사례
노 장 사 상
기업의 적용사례
ㆍ장자의 제물론
-상대적이고 주관적인 차별관점
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분말을 소결 후, 전극을 연결하기 위하여 표면에 무전해 도금(Au)을 시행한다. 이는 이온화 경향을 이용한 도금방법이다.
도금 후, 구리선을 연결하기 위해서 납땜을 했는데 NTC 표면과 구리선이 잘 붙지 않아서 애먹었다. 그 이유는 무전해 Au도
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분말을 코팅시키는 것이기 때문에 화학적인 방법을 이용하는 것이 아니라 물리적인 방법을 이용해서 쉽게 탄탈을 회수 할 수 있다는 것을 보여주고 있는 것이다. 그리고 어떤 것이 회수시에 비용을 절감하고 고순도의 탄탈을 얻을 수 있는지
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분말X선회절법에 의한 동정법의 특징
2. X선에 의한 동정법의 한계
3. ICDD card
4. 색인서(Index book)
2. TGA (ThermoGravimetric Analysis)
(1) 장치 구성
(2) 전자저울 종류
(3) TG의 가중기법
1. TG 곡선의 의미
2. TG 미분곡선
3. 미분곡선을 이용하는 이점
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