[물리화학실험] Fundamental substrate study & optical microscope 예비레포트

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목차

1)실험제목
2)실험날짜
3)실험목적
4)시약 및 기구
5)실험이론
6)실험과정
7)참고문헌

본문내용

ing: 간단한 방법이며, 플라즈마 방사선, 전자&이온 폭격(bombardment)등에
의해 시행된다.
Sputtering: 가장 널리 이용된다. plasma와 청소하려는 표면 사이에 전압을 가해
시행한다.
Etching: plasma 내의 원자 혹은 라디칼이 표면과 화학 반응을 일으킨다. 처음에는
표면 온도와 화학적 친화력에 의해 흡수도가 결정된다. 흡수된 물질들은
표면과 반응하여 반응물을 만들거나, 반응하기 전에 제거되거나, 반응하지 않은
채로 제거된다. 만약 반응 생성물이 휘발성이 있다면 가스 형태로 제거되거나
pumping을 통해 제거된다.
※원리: 플라즈마에 의해 제공된 에너지가 , , , , 과 같은
유기 결합을 끊을 수 있다. 이를 통해 고분자량 오염물질도 제거할 수 있다.
플라즈마와 함께 제공된 기체의 다양한 형태(일 경우, , , , O, ,
, 등이 해당)가 유기 오염물질과 반응하며 , 채, , 작은 분자량의
hydrocarbon 등을 생성하며, 높은 증기압을 갖는 것들은 과정 중에 제거된다.
< Cleaning>
※원리: 유기 물질을 휘발성이 강한 물질로 만드는 것이다. 이것을 UV에 의한
decomposition과 의 형성 혹은 decomposition 과정에서의 강한
산화작용을 이용해 달성한다. 그 후 오염된 표면에서 오염물질을 제거한다.
※제거 가능한 물질: 진공펌프 오일, 실리콘 확산 펌프 오일, 실리콘 진공 그을음,
장기간의 공기 노출로 인해 흡수된 오염물질
6)실험과정
①Substrate 준비 및 표면처리
- 각각의 Substrate를 diamond 칼을 이용해 자른다.
- 표면을 EtOH와 IPA를 통해 닦아준다.
- 대조군과 실험군을 만들어 표면처리를 시켜준다.
- 물, EtOH 등의 용매를 이용하여 각각의 wettability를 확인한다.
②Sampling
- 준비한 Substrate 위에 준비한 자유시료를 sampling 한다.
- 미리 준비된 sample(조교 준비)또한 substrate에 sampling 한다.
- 필요한 경우 cover glass로 덮어준다.
③관찰(optical microscope를 통한)
- filter 선택
- 저배율 -> 고배율
- 밝기조절
7)참고문헌
Handbook of silicon wafer cleaning technology/Karen A. Reinhardt
https://www.microscopeworld.com(t-dorkfield-microscopy)
https://petrologyservices.com/transmitted-and-reflected-light-microscopy
https://www.youtube.com/polarizing microscope
https://en.wikipedia.org
Microscopic Techniques
Technical News/Ultraviolet-Ozone Surface Treatment
Plasma Cleaning of Surfaces/A. Belkind and S. Gershman

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화학,   물리화학,   Fundamental substrat,   Optical Microscope,   현미경,   예비레포트,   A+