플라즈마

소개글

플라즈마에 대한 보고서 자료입니다.

목차

1. 플라즈마의 종류
- 고온플라즈마
- 저온플라즈마
- 상압플라즈마

2.MHD 발전
- 정의
- 기본원리
- 플라즈마 밀폐장치
자장밀폐방식(Magnetic Confinement)

3. 가공기술
- 표면클리닝
- 절단
- 디스플레이
- 건식에칭가공

본문내용

마 아크)가 노즐(냉각된 노즐 부분을 포함한 토치 끝부분의 부품을 칩이라고도 부름)를 통과할 때, 서멀 핀치 효과를 교묘하게 이용하여, 20,000~30,000도의 플라즈마 아크를 만들어 낸다.
이 초고온의 플라즈마 아크를 절단 열원으로 사용하여 가공물을 절단한다. 종래의 가스 절단(산소절단)이 금속의 산화 반응을 이용하는 화학 절단이라고 한다면, 플라즈마 절단은 초고온의 플라즈마 아크로 피가공물을 녹여 절단하는 일종의 물리 절단이라고 할 수 있다. 따라서 가스 절단은 철만 절단할 수 있지만, 플라즈마 절단은 대부분의 금속을 절단할 수 있다. 플라즈마 절단은 원리적으로 열에너지를 절단재의 윗면에서부터 공급하는 방식이기 때문에 공급 에너지의 제약이 있다. 이 때문에 절단재의 두께가 두꺼워지면, 절단이 곤란하게 된다.
- 디스플레이 : 최근 TFT-LCD가 모니터 및 TV로 각광을 받으면서 플라즈마는 LCD 공정 중 박막 트랜지스터를 만드는 공정에 응용되고 있다. LCD에서 플라즈마가 크게 응용되고 있는 이유는 낮은 공정 온도와 높은 화학적 활성 때문이다. 플라즈마 내의 전자의 온도는 약 수만 도로 매우 높아 많은 화학적으로 활성이 높은 라디칼들을 만들지만 열용량이 작아 기판에 미치는 열량은 얼마 되지 않아서 낮은 기판 온도에서도 높은 화학 반응성을 얻을 수 있다. LCD에서는 유리가 온도에 민감하므로 플라즈마 공정의 중요성이 매우 크다. 플라즈마는 LCD에서는 공정으로 PDP에서는 빛으로 사용되고 있다. PDP는 쉽게 말하면 형광등을 극단적으로 0.3mm 이하로 작게 만들고 수백만 개를 배치해서 디스플레이로 만들었다고 생각하면된다.
- 건식에칭가공 : 에칭은 원하는 부분만 선택적으로 깎는 것으로 수용액 속에서 진행하는 습식 에칭과 플라즈마 안에서 진행하는 건식에칭이 있다. 미세한 패턴을 구현하기 위해서는 마스크의 형상을 그대로 살릴 수 있는 건식에칭이 필수적이다.
건식에칭방식에는 여러 가지가 있는데 그중에서 ICP-RIE(유도결합 플라즈마-반응성이온 에칭)은 고밀도의 플라즈마를 교류유도 결합방식으로 생성하고 기판에 바이어스를 가해 플라즈마 이온에 운동에너지를 더해주는 방법이다. 이렇게 함으로써 이온의 밀도, 운동에너지와 운동방향 등을 독립적으로 조절하여 미세패턴 형성이 쉬워진다. 이 방식을 이용하면 저압에서도 플라즈마를 형성할 수 있고 장비를 대형화하는데 유리하며, 또 공정자체를 간단하게 조절할 수 있다.

키워드

플라즈마,   MHD,   가공기술,   종류