[신소재 기초실험] 산화 공정 (Oxidation) - 딜-그로브의 열 산화 모델 (Deal-Grove Model of Oxidation)

목차

제목 : 산화 공정 (Oxidation)
목적
이론 : 딜-그로브의 열 산화 모델 (Deal-Grove Model of Oxidation)
　- Furnace system
　-실험방법
　-실험결과
　-고찰
　-참고문헌 :

본문내용

을 다룰 때 도구를 사용한다고 하지 만 손을 거쳐서 가는 과정이 있으므로, 손에있는 불순물들이 오차를 발생시킬 수 있다. 또, FURNACE에서 산화막을 형성 시키는 과정에서 기계적 오차가 발생 할 수 있다. AFM측정 하는 과 정에서도 오차가 생긴다. AFM을 통해서 산화막을 두께를 측정한 결 과, 각 시간 별마다 4번의 측정을 하였다. 4번의 측정값에서 Z를 평 균내어서 평균Z값과 가장 가까운 측정값이 최종적인 실험값으로 사 용된다. 30min 에서는 1번 측정값이 평균값과 가장 가깝다. 2hour 에서는 1번 측정값이 평균값과 가깝고, 4hour에서는 3번 측정값이 평균값에 가깝다. 이번 실험을 통해서 나노입자의 측정을 배웠고, AFM의 용도와 사용방법에 대해 들었다. 산화공정을 통해 반도체의 기본과정과, 실리콘의 용도에 대해서 좀 더 자세히 알 수 있었다. MOS에 대한 뜻도 알게 되었다. 앞으로 유용하게 사용 될 반도체소자 에 대해 실험하여 전공에 대한 관심도 더욱 커졌다.
-참고문헌 : * 신소재기초실험 OXIDATION(산화공정) 프린트
* 신소재기초실험 Ⅰ(Text Book) , 국민대학교 공과대학 신소 재공학부, P. 21~ P. 33

키워드

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