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각(플라즈마 식각)-
습식식각은 여러 가지 장점을 가지고 있음에도 불구하고 식각이 등방성을 가지고 진행된다는 큰 단점을 가지고 있기 때문에 식각하고자하는 형상의 폭이 1㎛이하로 작아지게 되면 언더컷 현상 때문에 정확한 형상을 구현
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Photolithography :
특정한 화학약품(Photo resist)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화하는 원리를 이용
얻고자 하는 pattern의 mask를 사용하여 빛 을 선택적으로 PR에 조사함으로써 mask의 pattern과 동일한 pattern을 형성시키는 공정 photo
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1. 한전KDN에 입사하기 위해 어떠한 노력을 하였는지 본인의 경험 등을 기반으로 상세히 기술하여 주십시오.
직무경력이 있는 경우는 직무영역, 활동, 경험, 수행내용, 본인의 역할 및 구체적 행동, 주요성과에 대하여 작성하여주십시오. 직무
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이 문서는 상위 버전의 배포용 문서입니다. 문서를 읽으려면 최신 버전의 한글 또는 한글 전용 뷰어가 필요합니다. (주의! 현재 상태에서 문서를 저장하는 경우 원래 문서의 내용이 사라집니다.) 1. 1,2차 면접 진행 내용 상세히 기록
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중요해지고 있습니다. 보안 위협에 노출될 경우 사회적인 혼란과 위험을 초래될 수 있는 만큼 철저한 시스템 보안 관리에 만전을 기하도록 하겠습니다. 1. 자기PR
2. 성격 및 자기신조
3. 특기 및 경력사항
4. 지원동기 및 희망업무
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