CMP WAPER CLEANER개선 제안서

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	반도체 공정 CMP CLEARING 개발제안 개선안 흡입부 필터확장 및 Fan Control로 일정한 압력 유지 배기부의 배기 Control로 일정한 압력유지 요점 Cleaning부의 일정한 압력유지로 외부 공기 유입 차단 및 발생된 파티클의 배기가 원활하게 개선 CMP WAPER CLEANER 개선제안 목적 개선 CMP CLEARING 개발제안 CMP WAPER CLEANER 개선제안, Concept분석 CMP클리닝, 반도체 공정 CMP CLEARING 개발제안,	페이지 8페이지 가격 15,000원 등록일 2017.12.26 파일종류 피피티(ppt) 참고문헌 있음 최근 2주 판매 이력 없음
	반도체 ROTARY UNION 제안서, CMP용 로타리 조인트의 수리의뢰가 들어오면 max본사 공장으로 보내진 후 로타리 조인트를 분해합니다. 내부 CLEANING을 한후 Rotor 및 Housing의 상태를 확인하고 내부 Seal, spring, O-ring등을 모든 Wear Parts 를 교환합니다. Cleaning 및 Repair가 완료 CMP Ebara Rotary Union 고장 유형 Rotary Union Concept, Rotary Joint 검사 설비 구성도 반도체 ROTARY UNION 제안서, 반도체 ROTARY UNION 제안서,,	페이지 20페이지 가격 100,000원 등록일 2022.07.08 파일종류 피피티(ppt) 참고문헌 있음 최근 2주 판매 이력 없음

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등록일 2018.02.09
파일종류 한글(hwp)
직종구분 기타