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전문지식 3건

	Si(p-type) 기판위에 MOCVD TiN / MOCVD Co를 In-Situ 공정으로 증착 후 열처리 온... grain의 크기가 변화는 것을 볼 수 있다. ③ AFM image을 보고 1, 2의 결과와 비교하시오. 표면 roughness 가 비저항에 미치는 영향을 설명하면서 쓰시오. 박막을 증착시킨 후 열처리 공정을 통하여 거친 박막의 표면을 관찰해 보면, 열처리 온도의 증 FESEM image AES, AFM image MOCVD, Si(p-type) 기판위에 MOCVD TiN / MOCVD Co를 In-Situ 공정으로 증착 후 열처리 온도에 따른 비저항 거동,	페이지 7페이지 가격 2,000원 등록일 2007.09.20 파일종류 한글(hwp) 참고문헌 없음 최근 2주 판매 이력 없음
	반도체공정 실험 - Dry etching 찍은 이미지를 보면 왼쪽 편의 사진이 예상대로 7분일 때 가장 깊은 것으로 나타났다. 처음 예상과 비슷한 결과값이 나왔다. Etch rate는 SiO2의 두께 변화로 구하는 것이고 공식은 다음과 같다. 1. 실험 목적 2. 실험방법 3. 결과 및 고찰 반도체공정 실험 FE-SEM, Dry etcher ICP, 반도체공정 실험 - Dry etching,	페이지 7페이지 가격 1,500원 등록일 2015.02.23 파일종류 워드(doc) 참고문헌 없음 최근 2주 판매 이력 없음
	나노 측정 장비 이미지 ①홈페이지 주소 : www.daedukimage.co.kr ②주요 제품 및 적용 분야 : Leica, Mini-SEM, X-Ray, XRD/XRF, EDS ③주소 : 대전시 유성구 용산동 533번지 미건테크노월드 506호 ④주요 제품 사진 DESKTOP MINI SEM MINI SEM NORMAL SEM 8. 새론테크놀러지 ①홈페이지 주 나노 측정 장비 AFM, STM SEM, 나노 측정 장비,	페이지 46페이지 가격 3,000원 등록일 2011.06.25 파일종류 한글(hwp) 참고문헌 없음 최근 2주 판매 이력 없음