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목차
감광성 고분자
Positive PR
♦종류
♦ 용해 억제형 Photoresist
♦ 주쇄 절단형 Positive Photoresist
Positive PR
♦종류
♦ 용해 억제형 Photoresist
♦ 주쇄 절단형 Positive Photoresist
본문내용
BM은 전자선에 의한 마스크 제작에 사용되고 있으며 DUV에도 고감도를 나타낸다. Polyketone은 고전적인 주쇄절단형 감광성 고분자이고 300㎚ 부근에 약한 흡수를 나타내고 자외선에 대하여 PMMA보다는 고감도를 나타낸다.
주쇄절단 반응의 양자수율을 향상시키기 위하여 poly(isopropenyl t -butylketone)이 합성되기도 하였다.
주쇄절단 반응의 양자수율을 향상시키기 위하여 poly(isopropenyl t -butylketone)이 합성되기도 하였다.
키워드
- 가격700원
- 페이지수2페이지
- 등록일2010.12.13
- 저작시기2009.11
- 파일형식한글(hwp)
- 자료번호#643056
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