 |
1998
日經バイオ年鑑, 각 연호
日本經濟産業省 BT戰略會議, 「バイオテクノロジ-戰略大綱」, 2002. 12
www.bio.org
www.biocom.org
www.choosemaryland.org
www.sadiegoatwork.com Ⅰ. 서 론
1. 연구 배경 및 연구 목적
2. 연구 방법 및 연구 구성
Ⅱ. 산업클러
|
|
|
1장 서론
제 1절 연구의 목적 및 배경
제 2절 연구의 방법 및 범위
제 2장 이론적 배경
제 1절 테크노와 테크노 문화
1. 테크노와 레이브 문화
2. 그루브 역학
3. 레이브의 역학
4. 테크노 프리미티브
5. 서쪽에 있는 동양
제 2절
|
|
|
1.2.1 Sn-Bi 계
1.2.2 Sn-Ag 계
1.2.3 Sn-In 계
1.3 연구의 목적
2. 이론적 배경
2.1 Based Sn-Bi 에서 합금원소 Cu의 첨가
2.2 Based Sn-Bi에서 Ag의 첨가
3. 실험 방법
3.1 합금설계
3.2 Polishing
3.3 인장 시험 시편 제작
3.4 EPMA(Electron Probe Micro Analyzer)
3.5 인
|
|
|
1. 서 론
1.1 연구배경
1.2 연구목적
1.3 연구내용
2. 본 문
2.1 시스템 개괄
2.1.1 System Block Diagram
2.1.2 System Specification
2.2 하드웨어에 대한 분석 및 구현
2.2.1 MCU(micro-controller unit)
2.2.2 Servo motor
2.2.3 Blue tooth
2.2.4 RS-232 Serial Interface
2.2.5 USART
|
|
|
1. 홀로그래픽 리소그래피(Holographic Lithography) 시스템 원리
2. 홀로그래픽 리소그래피(Holographic Lithography) 시스템 구성
3. 감광제(Photoresist) 도포 조건의 도포 두께에 대한 영향 및 최적화
4. 노광시간(Exposure Time)의 영향 및 최적화
5. 실험 결과
|
|
|
및 특허조사
2-1 국내 나노기술의 동향
2-2 국외
2-3 국내외 기술 수준 비교표
2-4 나노기술의 산업기술에 미치는 파급효과 분석
3 나노입자 분석 및 선정
3-1 나노입자의 모양
3-2 나노입자의 크기 및 물성치
4. 실험장치 설계 및 방법
4-1
|
|
메뉴펼치기
