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결정면의 연마 이방성, 한국정밀공학회 Ⅰ. 개요
Ⅱ. 결정면과 바이스계수
1. 한 면이 세결정축을 절단하는 단위길이의 상대적인 수로서 표현
2. 축절단길이를 알고 있을 때
Ⅲ. 결정면과 구면투영
1. 직접투영
1) 면
2) 선(축)
2. 역
결정면 구면투영, 바이스계수 지수, [결정면, 바이스계수, 구면투영, 지수, 스트레오투영, 반도체공학, 반도체, 텅스텐 결정면, 텅스텐, 스테,
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공학 및 광학등 거의 모든 분야에서 사용할 수 있게 하였다.
(B) ATM (Scanning Force MicroScope)의 원리
"AFM"에서는 STM과는 달리 텅스텐 또는 백금으로된 탐침대신 나노기술로 제조된 프로브를 사용하는데 이 프로브는 프로브의 모판(substrate) 끝에 아
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반도체, 세라믹 등의 재료는 증착, 전해 연마, 이온 에칭 등의 기술을 이용하여 박막화 시킨다. 의학, 생물 분야에서는 미생물, 세포 등의 생체 조직의 연구에 사용되며, 재료과학 분야에서는 입계 계면, 격자 결함, 상전이 등의 연구에 이용된
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포함하는 기체를 도입하여 조절한다.
◎참고문헌 및 자료 출처
- Robert F. Pierret, 박창엽 역, 반도체소자공학, 교보문고, 초판, 1997, pp.149-164 반도체 공정과정
1. 산화
2. 확산
3. 이온주입
4. 리소그래피
5. 박막증착
6. 에피택시
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계수 를 구할 수 있다. 그리고 Hall 이동도 는
로 표시된다.
Ⅳ. 참고문헌
고체물리학 /Ibach, Harald/사이텍미디어/2000/
핵심 반도체개론/장지근/淸文社/2001/
반도체공학/천변조/북스힐/2001/
현대물리학/Beiser, Arthur/교보문고/2000/
고체전자론입문 /지
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