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Enhanced Chemical Vapor Deposition)
5.3. APCVD
6. 분자빔 결정법(MBE)
7. 박막 증착의 예
7.1. 실리콘 박막 트랜지스터(TFT)
8. PVD와 CVD의 차이 비교
9. 증착법의 실제 적용 분야
9.1. 증착법의 기술전망
10. 포토리소그래피
11. 식각
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공학, 이준신저, 홍릉과학출판사, 2009 / 반도체 공정기술, 황호정저, 생능출판사, 2005 1. 박막트랜지스터(Thin Film Transistor) 기술 개요
1.1 TFT 기술 개요
1.2 TFT 전체 제조 공정
2. TFT 단위공정 & 개선기술
2.1 TFT 단위공정 소개
2.1.1 박막
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실험장치 및 방법
4.실험결과
1) 졸-겔법을 설명하고 반응과정에 대하여 서술하시오.
2) 액상법을 이용한 코팅박막제조기술에 대해 조사한다.
3) Spin coating법에 의해 코팅되는 발광재료에 대해 조사한다.
5.토의
6.결론
7.참고문헌
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기술부의 21세기 프론티어 사업이나 지식경제부의 산업기술개발사업 이외에도 국내 산학연의 상용화 연구지원을 위한 인적ㆍ물적 인프라를 확충해야 한다.
Ⅳ. 참고문헌
디스플레이 공학, 이준신, 이성은, 김도영, 최병덕, 모연곤 공저, 홍릉
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공정 부문에 치중되어 있다고 보여진다.
참고문헌
김희철 외 1명 : 지방중소제조기업의 활성화방안에 관한 연구, 한국무역통상학회, 2005
문성욱 : 외부 지식 활용이 한국 제조 기업들의 혁신에 어떤 영향을 미치는가?, 한국기술혁신학회, 2011
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